紫外線露光方法、紫外線露光装置及び電鋳モールドパターンの作製方法

開放特許情報番号
L2009005132
開放特許情報登録日
2009/9/11
最新更新日
2015/9/29

基本情報

出願番号 特願2009-147519
出願日 2009/6/22
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2011-003831
公開日 2011/1/6
登録番号 特許第5565788号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 電鋳モールドパターンの作製方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 紫外線露光装置及び電鋳モールドパターンの作製システム
目的 側壁に勾配を形成するのが困難なマイクロ・ナノパターンに対して、レジストパターンの側壁に任意の角度で傾斜面を付与できる紫外線露光方法、紫外線露光装置及び、レジストパターンの側壁に任意の角度で傾斜面を付与できる紫外線露光方法を用いた電鋳モールドパターンの作製方法を提供する。
効果 側壁に勾配を形成するのが困難なマイクロ・ナノパターンに対して、紫外線投影露光の焦点に対するレジスト塗布基板の相対位置を変化させることによって、レジスト構造体の側壁に任意の角度で傾斜面を付与できる。また現像後のレジストパターンをマスターとした電鋳によって、抜き勾配を有する高精細モールドが安価に作製できる。
技術概要
紫外線の集点と基板上に形成された紫外線感光性材料の相対位置を変化させて紫外線感光性材料をフォトマスクのパターンに露光するステップと紫外線感光性材料を現像するステップとを含み、側壁に相対位置に応じた傾斜面を有する紫外線感光性材料のパターンを形成する。この紫外線露光装置は、紫外線の集点と紫外線感光性材料の相対位置を変化させる機構は、紫外線感光性材料が形成された基板が挿入でき、紫外線の光軸に対して直交するように基板を配置でき、基板を紫外線の光軸上の任意の位置に固定できるようにする。この露光方法により得られた紫外線感光性材料のパターンを含む基板上に電鋳モールドし、電鋳モールドパターンを形成した後、紫外線感光性材料のパターンを基板とともに剥離する側壁に傾斜面を有する電鋳モールドパターンを作製する。図1に示すように焦点がレジストと基板との界面に来るように基板の位置を調整する。図2に示すように、対物面(レチクル面)から拡がった紫外線は投影レンズ9によって集光され、対物面8のパターンは焦点面12で結像する。この焦点面から光軸に沿って上下にレジスト塗布基板を動かすと、デフォーカス状態でパターンが転写される。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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