皮膜の製造方法と皮膜形成部材

開放特許情報番号
L2009005115
開放特許情報登録日
2009/9/11
最新更新日
2015/9/29

基本情報

出願番号 特願2009-135509
出願日 2009/6/4
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2010-280954
公開日 2010/12/16
登録番号 特許第5482989号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 皮膜の製造方法と皮膜形成部材
技術分野 無機材料、電気・電子、食品・バイオ
機能 材料・素材の製造、環境・リサイクル対策
適用製品 簡便な操作で得られ、生体材料、携帯電話やパソコン等の電子部品筐体の構成材料等の分野で広く利用される。
目的 耐食性に優れた皮膜を環境への負荷が小さく、且つ簡便な方法で製造することができる皮膜の製造方法及びその皮膜が形成されてなる皮膜形成部材を提供する。
効果 有機物を用いていないので、不純物の混入を回避することができる。さらに、皮膜形成のための処理装置を簡易な構成とすることができるので、自由度の高い処理装置を設置できるという利点も有する。
技術概要
フッ化チタン塩を含む溶液とマグネシウム又はマグネシウム合金で構成される基材とを接触させることにより基材の表面に酸化チタンとフッ化マグネシウムの皮膜を生成させて、皮膜を製造する。尚、フッ化チタン塩が、ヘキサフルオロチタン(IV)酸アンモニウム、ヘキサフルオロチタン(IV)酸ナトリウムまたはヘキサフルオロチタン(IV)酸カリウムであり、また、フッ化チタン塩を含む溶液が、フッ化チタン塩水溶液である。また、フッ化チタン塩水溶液にフッ素イオンを捕捉する添加剤を添加して酸化チタンの過飽和水溶液の調製した後、この酸化チタンの過飽和水溶液と基材とを接触させる。また、フッ素イオンを捕捉する添加剤が、ホウ酸である。更に、マグネシウム又はマグネシウム合金で構成される基材の表面に酸化チタンとフッ化マグネシウムの皮膜を有する皮膜形成部材であって、皮膜は、アナターゼTiO↓2結晶とMgF↓2結晶を含む。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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