シリコン超微粒子を用いて作製したフルカラー発光/受光素子の製造方法

開放特許情報番号
L2009005021
開放特許情報登録日
2009/9/4
最新更新日
2009/9/4

基本情報

出願番号 特願2000-348080
出願日 2000/11/15
出願人 日本放送協会
公開番号 特開2002-154816
公開日 2002/5/28
登録番号 特許第4282892号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 シリコン超微粒子を用いて作製したフルカラー発光/受光素子の製造方法
技術分野 化学・薬品、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリコン超微粒子を用いて作製したフルカラー発光/受光素子
目的 シリコン超微粒子を用いて作製したフルカラー発光/受光素子の製造方法、特に、光吸収、フォトルミネッセンス等において優れた光学特性を有し、発光素子、受光素子として使用されるシリコン超微粒子の特性を改善する熱処理方法で作製したシリコン超微粒子を用いて作製したフルカラー発光/受光素子において、シリコン超微粒子の光学特性を簡便に改善することが可能な技術を提供する。
効果 熱処理により光吸収波長の制御及び発光特性が改善されるので、受光デバイス、発光デバイス等の機能性材料に使用することが可能となる。
技術概要
不活性ガス雰囲気下で800℃から1000℃の温度で加熱処理を行ったシリコン超微粒子と、不活性ガス雰囲気下で600℃から800℃の温度で加熱処理を行ったシリコン超微粒子と、不活性ガス雰囲気下で400℃から600℃の温度で加熱処理を行ったシリコン超微粒子とを積層してフルカラー発光/受光素子を製造するフルカラー発光/受光素子の製造方法である。この方法では、不活性ガスは、N↓2、He、Ar、Ne、Kr、Xe、及びそれらの混合ガスのうちいずれか1つの不活性ガス、又はそれらを主成分とする不活性ガスであり、加熱処理は、60分以下の時間行い、加熱処理は、電極還元法により作製されたシリコン超微粒子に対して施すことが好ましい。図1はシリコン超微粒子粉末の室温における紫外可視吸収スペクトルの熱処理効果を示す図、図2はシリコン超微粒子粉末の室温におけるフォトルミネッセンススペクトルの熱処理効果を示す図、図3はシリコン超微粒子粉末の熱処理による積分発光強度変化を示す図、である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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