高強度レーザーのコントラスト制御法

開放特許情報番号
L2009004929
開放特許情報登録日
2009/8/21
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2007-220990
出願日 2007/8/28
出願人 独立行政法人日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2009-053505
公開日 2009/3/12
登録番号 特許第5093468号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 高強度レーザーのコントラスト制御法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 高強度レーザーのコントラスト制御システム
目的 高強度レーザーにおいてコントラストを簡便に制御できる方法を提供する。
効果 コントラストを簡便に制御でき、この制御されたシグナル光を多段の誘導放出を用いたレーザー増幅器に入力してさらに増幅することにより、より高強度のレーザー光を実現できる。
技術概要
図1は、装置構成を示す図である。図2は従来方式で得られるコントラスト(a)とこの方法で得られるコントラスト(b)を示す図である。図3は従来方式で得られるコントラスト(a)とこの方法で得られるコントラスト(b)の測定結果を示す図である。図1に示されるように、短パルスレーザー発振器、パルス拡張器、光パラメトリックチャープパルス増幅器(OPCPA)、誘導放出を用いたレーザー増幅器及びパルス圧縮器からなる高強度レーザーのコントラスト制御装置が用いられる。短パルスレーザー発振器から出力されたシグナル光が、回折格子等を用いたパルス拡張器によりスペクトル分散された後に、ポンプ光で励起された光パラメトリックチャープパルス増幅器(OPCPA)に導入され、その後、誘導放出を用いたレーザー増幅器で更に増幅され、パルス圧縮器でパルス圧縮され、高強度化されたレーザー光が取り出される。このときにOPCPAのポンプレーザーの光強度を変化させることにより、コントラストが制御可能な高強度レーザー光を得ることができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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