出願番号 |
特願2007-229280 |
出願日 |
2007/9/4 |
出願人 |
国立大学法人豊橋技術科学大学、株式会社リコー |
公開番号 |
特開2009-062416 |
公開日 |
2009/3/26 |
登録番号 |
特許第5139756号 |
特許権者 |
国立大学法人豊橋技術科学大学、株式会社リコー |
発明の名称 |
脂肪族炭化水素系溶媒中で形成される高分子微粒子およびその製造法 |
技術分野 |
有機材料 |
機能 |
材料・素材の製造 |
適用製品 |
即乾性、建築用塗料、紙改質剤、繊維改質剤、コ−テイング剤、抽出・分離剤、医療用および農業用薬物運搬体 |
目的 |
従来の微粒子製造技術ではその溶媒として水やアルコ−ルが用いられることが多く、染料や塗料の構成材料として用いると、乾燥に長時間を要するばかりか、微粒子中に溶媒が残留するという問題があることに鑑み、揮発性が高くかつ臭いも毒性も低い環境低負荷型の有機溶媒を用いることの実現。 |
効果 |
即乾性がありかつ乾燥時に悪臭を放たず、かつ生体や環境に負荷をかけない溶媒を使用して、耐久性や力学的強度の優れた高分子から高分子微粒子を製造することができる。さらに、一般式(1)で示されるポリマ−セグメントの重合度であるmや、一般式(2)で示されるポリマ−セグメントの重合度であるn、またその割合であるn/mを変えることにより、高分子微粒子のサイズをナノオ−ダ−で制御することができる。 |
技術概要
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この技術は、ポリ(tert−ブトキシスチレン)とポリスチレン誘導体からなるブロック共重合体を合成し、構造の中に芳香族を含まない揮発性の高い有機溶媒に該共重合体を溶かすと、数十〜数百ナノメ−トルの高分子微粒子が形成されることに基づく。一般式(1)で示されるポリスチレン誘導体と一般式(2)で示されるポリ(tert−ブトキシスチレン)とからなるブロック共重合体を特定の有機溶媒に溶かすだけで、ナノオ−ダ−の球状高分子微粒子が形成される。ここで、一般式(1)中、R↑1はラジカル重合開始剤残基、R↑2は水素原子、アルキル基、アリ−ル基もしくはハロゲン基のいずれかを表す。※は一般式(2)で示されるポリマ−との結合部位を示す。mは重合度で、80〜1500の整数である。一般式(2)中、R↑3は精密ラジカル重合の重合制御剤残基を表す。※は一般式(1)で示されるポリマ−との結合部位を示す。nは重合度で、50〜1500の整数である。 |
イメージ図 |
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実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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