中空粒子の製造方法

開放特許情報番号
L2009004736
開放特許情報登録日
2009/8/7
最新更新日
2009/8/7

基本情報

出願番号 特願2005-262667
出願日 2005/9/9
出願人 国立大学法人 名古屋工業大学
公開番号 特開2007-075660
公開日 2007/3/29
発明の名称 中空粒子の製造方法
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 中空粒子
目的 従来よりも作製が容易で、かつ作製コストを下げる中空粒子の製造方法を提供する。
効果 従来よりも作製が容易で、かつ作製コストを下げる中空粒子の製造方法を提供できる。
技術概要
溶液内にガスをバブリングしてミクロのバブルを発生させ、バブルと溶液の界面で加水分解及び重縮合反応を起こし微粒子をバブルの周囲に析出させ中空粒子とする中空粒子の製造方法である。この溶液は、所定量のテトラエトキシシラン又は珪酸ナトリウム、エタノール、塩酸、NH↓3水溶液、H↓2Oを所定時間混合し、乾燥制御剤にホルムアミドを加えて、SiO↓2前駆体溶液とした溶液である。このバブルは、SiO↓2前駆体溶液にHF、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)を用いて開口・表面疎水処理を施したシリカキャピラリーに所定の圧力でNH↓3ガスを流しバブリングして発生する。図に示すように、テトラエトキシシラン、エタノール、塩酸、25%NH↓3水溶液、水を混合し、乾燥制御剤にホルムアミドを加えて、SiO↓2前駆体溶液を作製する。この溶液にHF、HMDSを用いて開口・表面疎水処理を施した直径50μmのシリカキャピラリーに所定の圧力でNH↓3ガスを流し、無機中空粒子を作製する。SiO↓2前駆体溶液とNH↓3ガスとの界面でテトラエトキシシランと水との加水分解及び重縮合反応をNH↓3ガスにより促進させ、シリカの微細非晶質粒子の殻を形成する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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