光学活性塩素化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2009004732
開放特許情報登録日
2009/8/7
最新更新日
2011/1/28

基本情報

出願番号 特願2005-113068
出願日 2005/4/11
出願人 国立大学法人 名古屋工業大学
公開番号 特開2006-290789
公開日 2006/10/26
登録番号 特許第4644805号
特許権者 国立大学法人 名古屋工業大学
発明の名称 光学活性塩素化合物の製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 光学活性塩素化合物
目的 光学純度が高い光学括性α−塩素化合物を製造する方法を提供する。
効果 これまで不斉合成に使用されたことのなかったペルフルオロアルキスルホニルクロリド類を用い、ビスオキサゾリン型不斉配位子の遷移金属錯体の存在下に、汎用性の高い基質から、光学純度が高い光学括性α−塩素化合物を製造する方法を提供できる。この光学活性なα−塩素化合物は、様々な用途があるが、特に医農薬や機能性材料の合成中期体として有効である。
技術概要
 
式1:R↑1−Xn−CO−CHR↑2−Wで表される化合物を、式2:ML↓rA↓sD↓cで表される不斉遷移金属錯体触媒の存在下に式3:RfSO↓2Clで表されるペルフルオロスルホニルクロリドと反応させる、式4:R↑1−Xn−CO−C*ClR↑2−Wで表される光学括性塩素化合物の製造方法である。式中、R↑l、R↑2は、炭化水素基、複素環基等、R↑l、R↑2のどちらかは水素原子でもよい。Xはアルキレン基、=N−H等、Wは電子吸引基、nは0、1、R↑lとR↑2、R↑lとW、R↑2とWは夫々共に結合して環を形成してもよい。Lは不斉配位子、Mは遷移金属、Aは水または中性配位子、Dはアニオン性配位子又は対アニオン、rは1、2、Sは0、1、2、4、6、Cは0、1、2である。Rfはペルフルオロアルキル基、Rf中のペルフルオロアルキル基とはCが1から10の、水素がフッ素で置換された枝分かれがあっても良いアルキル基またはシクロアルキル基が好ましい。好ましくはペルフルオロアルキルスルホニルクロリド類はトリフルオロメチルスルホニルクロリドである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT