口腔洗浄剤、オゾン水製造方法、及び口腔洗浄剤製造装置

開放特許情報番号
L2009004606
開放特許情報登録日
2009/7/24
最新更新日
2009/7/24

基本情報

出願番号 特願2006-174248
出願日 2006/6/23
出願人 国立大学法人 東京医科歯科大学
公開番号 特開2008-001657
公開日 2008/1/10
発明の名称 口腔洗浄剤、オゾン水製造方法、及び口腔洗浄剤製造装置
技術分野 化学・薬品、生活・文化
機能 材料・素材の製造、洗浄・除去
適用製品 う蝕防止、口腔洗浄剤、オゾン水、口腔洗浄剤製造装置
目的 使用者に与える負担を軽減でき、バイオフィルムを充分に除去でき、且つ歯質の脱灰を充分に抑制できる口腔洗浄剤の提供。
効果 口腔洗浄剤をpH8以上のアルカリ性としたので、α−1,3−グルカン、及びα−1,6−グルカンが口腔洗浄剤に溶解する。これにより、バイオフィルムが分散するので、バイオフィルムを充分に除去できる。しかも、口腔洗浄剤を液体としたので、うがいを所定時間行うだけで、バイオフィルムが迅速に分散されて除去される。よって、使用者に与える負担を激減できる。
技術概要
この技術では、pHが8以上12以下の液体の口腔洗浄剤を口腔内細菌性疾患の予防に用いる。この口腔洗浄剤には、カルシウムイオン、リン酸イオン、重炭酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種を有効量添加することが好ましい。また、消毒性成分を有効量添加してもよい。消毒性成分は含有しないとしてもよい。また、このような口腔洗浄剤は、電解質を含有する原料水を電気分解することにより、pHを調整したものとすることができる。原料水に添加する電解質は、生体に適用できる電解質である限りにおいて、特に限定されない。具体的には、乳酸カルシウム、グリセロリン酸カルシウム、炭酸カルシウム、及び水酸化カルシウム等が挙げられる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 東京医科歯科大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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