応力発光解析装置、応力発光解析方法、応力発光解析プログラムおよび記録媒体

開放特許情報番号
L2009004409
開放特許情報登録日
2009/7/17
最新更新日
2015/9/28

基本情報

出願番号 特願2009-038306
出願日 2009/2/20
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2010-190865
公開日 2010/9/2
登録番号 特許第5234546号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 応力発光解析装置、応力発光解析方法、応力発光解析プログラムおよび記録媒体
技術分野 電気・電子、情報・通信、土木・建築
機能 制御・ソフトウェア、検査・検出、安全・福祉対策
適用製品 高架橋、橋梁、トンネルなどの大型構造体のみならず、圧力容器、住宅の支柱、パイプラインなどの様々な構造体の欠陥やひずみを測定(検知)する装置
目的 構造体に欠陥が発生すると欠陥周辺に異常ひずみが生じ、構造体自体の破壊に繋がる場合があり、欠陥やひずみを測定(検知)するために、応力発光体を利用する技術がある。 具体的には、ひずみエネルギーを受け取って発光する応力発光体を含有する膜(発光膜)を構造体の表面に設けることにより、構造体と同じく発光膜を歪ませることによって、応力発光体を発光させる。この発光を測定することで構造体の欠陥を検知することができる。 応力発光体の発光現象に基づいて、応力発光体のひずみパターンを精度よく推定することを目的とする。
効果 応力発光体の発光パターン、および、応力発光体を賦活状態に遷移させる賦活光の照射パターンに基づいて、応力発光体のひずみパターンを算出する。 これにより、応力発光体を賦活状態に遷移させる賦活光の照射パターンを用いることにより、従来なしえなかった応力発光体のひずみパターンの推定を高い精度で行うことができる。
技術概要
応力発光解析装置100は、応力発光体の発光パターンを特定するパラメータ、および、応力発光体を賦活状態に遷移させる賦活光の照射パターンを特定するパラメータおよび賦活光の照射終了時刻から応力発光の検知時刻までの経過時間を入力情報とし、応力発光体のひずみパターンを出力情報する、学習により予め最適化されたニューラルネットワークを用いた算出部140を備えている。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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