無機膜の製造方法

開放特許情報番号
L2009004397
開放特許情報登録日
2009/7/17
最新更新日
2015/9/28

基本情報

出願番号 特願2009-033616
出願日 2009/2/17
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2010-189684
公開日 2010/9/2
登録番号 特許第5435541号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 無機膜の製造方法
技術分野 無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 無機膜の製造、泳動電着法による基板表面に無機膜を製膜する方法
目的 基板上に無機物等の粒子の膜を設ける方法として泳動電着法が有効であるとされる。電着浴が水溶液系の場合は水の電気分解電圧等の制約があるため、非水系溶媒を用いる方法が提案されているが、従来の電着浴に用いる溶媒は、何れも消防法の危険物に指定されている可燃性液体であるため、工業的規模の実用化には限界があった。また、水溶液系溶媒に比し電流密度が高く、単位面積当たりの平均使用電力が高くなるといった問題もあった。そこで、可燃性溶媒を用いることなく、基板上に無機膜を安全かつ低時間、超低電力で製膜できる、製膜方法を提供する。
効果 この方法によると、可燃性の溶媒を用いずに、泳動電着浴に高電圧を印加でき、発火等の危険性をなくすことができる。製造にかかる消費電力を大幅に低減できる、泳動電着浴の調製が短時間で済む、環境や経時に依存することなく、長時間に亘って無機膜を精度高くかつ再現性よく製造することができる、大量生産性、低コスト化に有効である等の効果がある。
技術概要
この無機膜の製膜方法は、泳動電着法により基板表面に無機膜を製膜する方法において、電着浴の溶媒として、飽和脂肪族エーテルの水素の一部がフッ素で置換されたハイドロフルオロエーテルを用いる。好ましいハイドロフルオロエーテルは、一般式R↑1−O−R↑2 で示されるフルオロエーテルである(R↑1およびR↑2は、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数1〜6のフルオロアルキル基であり、かつR↑1およびR↑2の少なくとも一方は炭素数1〜6のフルオロアルキル基である)。基板としては、金属、合金、ステンレス鋼、炭素材料、導電性が付与されたセラミックおよび導電性が付与されたプラスチック基板等が挙げられる。無機膜としては、シリカ類、ゼオライト類および金属酸化物類が挙げられる。図は、ハイドロフルオロエーテル溶媒にメソポーラスシリカ粉末を分散したものを電着浴とし、印加電圧100Vで2分間に亘って電着実験を行ったときの電着時間と電流密度の関係、及び比較例としてハイドロフルオロエーテル溶媒を、脱水アセトンに代えた時の関係を示す。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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