パターニングされた物質の製造方法

開放特許情報番号
L2009004185
開放特許情報登録日
2009/6/19
最新更新日
2012/1/20

基本情報

出願番号 特願2007-542331
出願日 2006/10/19
出願人 国立大学法人北海道大学
公開番号 WO2007/049494
公開日 2007/5/3
登録番号 特許第4876261号
特許権者 国立大学法人北海道大学
発明の名称 パターニングされた物質の製造方法
技術分野 その他
機能 その他
適用製品 パターニングされた物質の製造システム
目的 従来のマイクロコンタクトプリンティング法やナノインプリント技術とは異なる、微細なパターンを形成し得る新たなパターニング技術を提供する。
効果 熱収縮性ポリマーフィルムもしくは熱収縮性ポリマーシートを基にして、回折限界を超えたマイクロパターニングを有するポリマーフィルムもしくはポリマーシートを製造することができる。このようなフィルムもしくはシートは、光拡散フィルム等の光学フィルム、その中でも可視光の波長以下の構造が求められるモスアイ型の反射防止膜の製造に利用可能である、また、細胞培養の基板としても利用可能である。
技術概要
 
パターニングを行おうとする物質、物質を腐食もしくは溶解することのできる液体、これを浸漬させた所望のパターンを有する鋳型を用い、鋳型を物質に押し当てて鋳型のパターンを物質に転写するものである。物質は、熱収縮性フィルムもしくは熱収縮性シートである。物質は非水溶性ポリマーフィルムもしくは非水溶性ポリマーシートであり、鋳型に含浸させる液体はフィルムもしくはシートを溶解することのできる有機溶媒である。鋳型のパターンを熱収縮性フィルムもしくは熱収縮性シートに転写した後に、フィルムもしくはシートを加熱収縮させる。物質は金属もしくは半導体であり、鋳型に含浸させる液体が該金属もしくは半導体を腐食させることのできる酸性液体である、パターニングされた金属もしくは半導体を製造する。鋳型はポリジメチルシロキサン又は水溶性ゲルよりなる。鋳型のパターンはレリーフ及び/又はスリットからなるパターンである。この方法は、パターニングが要求される物質の全てを対象とすることが可能である。例えば、金、銀、ニッケルなどの金属、シリコンなどの半導体、ポリマー、ガラス(酸化ケイ素)や酸化チタン等の無機酸化物などを対象としてパターニングすることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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