| 出願番号 |
特願2005-303898 |
| 出願日 |
2005/10/19 |
| 出願人 |
国立大学法人北海道大学 |
| 公開番号 |
特開2007-112856 |
| 公開日 |
2007/5/10 |
| 登録番号 |
特許第4830104号 |
| 特許権者 |
国立大学法人北海道大学 |
| 発明の名称 |
パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品、機械・加工 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
パターン化ハニカム状多孔質体 |
| 目的 |
ハニカム状に整列した微細な孔からなる周期構造を有する薄膜に対して、任意のパターンを施す方法を提供する。 |
| 効果 |
この製造法は、ハニカム状に整列した微細な孔からなる周期構造を任意の部分で破壊することができることから、この方法により製造されるパターン化ハニカム状多孔質体は、破壊された部分のみに光を導波する導波路を有するフォトニック結晶として利用することができる。またこの方法により製造されるパターン化ハニカム状多孔質体は、周期構造を保持した部分に培養細胞を限定して増殖させることができることから、パターン化された位置に細胞を培養することのできる基板としても利用可能である。 |
技術概要
 |
非水溶性ポリマーからなるハニカム状多孔質体にレリーフ及び／又はスリットからなるパターンを有する鋳型を接触させて該パターンをハニカム状多孔質体に転写することを含む、パターン化されたハニカム状多孔質体の製造方法である。この製造方法では、レリーフパターンを構成する鋳型凸部にハニカム状多孔質体を押しつぶさせることによって鋳型のパターンをハニカム状多孔質体に転写させる。また、レリーフパターンを構成する凹凸の頂部と底部との間隔がハニカム状多孔質体の膜厚より大きい鋳型であり、さらに、レリーフパターンを構成する鋳型凸部の頂部と又はスリットからなるパターンを有する鋳型とハニカム状多孔質体とを接着させた後に鋳型とハニカム状多孔質体を剥離することによって鋳型のパターンをハニカム状多孔質体に転写させる。図１は作製したハニカム状多孔質体の電子顕微鏡写真である。図２は使用した鋳型Ａの模式図である。図３は、鋳型Ａを利用して製造されたパターン化されたハニカム状多孔質体の電子顕微鏡写真である。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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