ハイドロキシアパタイトの製造方法及びハイドロキシアパタイト−蛋白質複合体の製造方法

開放特許情報番号
L2009003946
開放特許情報登録日
2009/6/5
最新更新日
2015/9/28

基本情報

出願番号 特願2007-225387
出願日 2007/8/31
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-057234
公開日 2009/3/19
登録番号 特許第5334030号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ハイドロキシアパタイトの製造方法及びハイドロキシアパタイト−蛋白質複合体の製造方法
技術分野 化学・薬品、食品・バイオ
機能 材料・素材の製造、安全・福祉対策
適用製品 高度なバイオ・医療技術への利用が可能ハイドロキシアパタイトの製造に適用する。
目的 特定溶液中の基体に特定エネルギーのレーザー光を照射し形成するハイドロキシアパタイトの製造方法を提供する。
効果 効率良く、安定したハイドロキシアパタイト生成核を生じさせることができ、特に、ハイドロキシアパタイト生成をパターン化することが可能になる。
技術概要
好ましくは、(A)カルシウムイオンとリン酸イオンが存在する液相中に配置した基体(例えば、エチレン−ビニルアルコールコポリマー等)表面に、1W/mm↑2未満のエネルギーのレーザー光を照射して、基体上にハイドロキシアパタイト前駆体を析出させた後、(B)この基体をカルシウムイオンとリン酸イオンが過飽和に存在する液相中に浸漬し、基体表面にハイドロキシアパタイトを形成させる、ハイドロキシアパタイトの製造方法にする(図)。これにより、アパタイトのパターンを簡便に生成することが可能となり、例えば、医療材料への応用では、アパタイトの有無によって、細胞との親和性などの生体適合性を場所によって調節することができ、また、工程Bにおける過飽和溶液中に生理活性タンパクや遺伝子を添加することにより、これらのタンパクや遺伝子を含むアパタイトパターンを作製することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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