多層膜の表面形状加工方法及び表面形状加工装置

開放特許情報番号
L2009003804
開放特許情報登録日
2009/5/29
最新更新日
2009/5/29

基本情報

出願番号 特願2007-065078
出願日 2007/3/14
出願人 国立大学法人東北大学
公開番号 特開2008-225190
公開日 2008/9/25
発明の名称 多層膜の表面形状加工方法及び表面形状加工装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 イオンビーム、非球面光学素子、顕微鏡、露光装置
目的 イオンビームを利用した多層膜のミリングにおいて、従来の欠点を除去し、サブナノメートル精度で反射波面の位相補正を実現するとともに加工時間の短縮を実現した多層膜の表面形状加工方法及び表面形状加工装置の提供。
効果 本技術によれば、厚さ数nmの多層膜の1周期毎のミリング除去により、サブナノメートル精度で反射波面の位相補正を実現できる。また大口径の多層膜全面にイオンビームを一括照射することが可能であり、1周期当たり数分でミリングできるため加工時間の大幅短縮を実現できる。
技術概要
この技術では、屈折率に差がある複数の物質を周期的に積層した多層膜のイオンビームによるミリングに際し、反射位相変化の小さい方の物質を基準としてミリングの深さを検知する。即ち、多層膜の表面形状加工方法を実施する表面形状加工装置であって、多層膜の全面を、一定の加工速度で、一括して加工除去できるミリング加工源と、多層膜の直前に近接して配置固定されたミリング領域選択マスクと、ミリング深さを検知する機構とを備える。ここで、ミリング加工源は、一定の速度で加工する手段として、ミリング領域選択マスクを固定した多層膜を高速で自転させ、ミリング加工流の空間密度分布と加工時間の積を一定にできるミリング加工流分布補正板を備える。又、ミリング深さを検知する機構は、多層膜と多層膜に近接して固定されたミリング領域選択マスクとの間隙に放射される光を検知する手段を含み、さらに、多層膜に流入又は流出するドレイン電流を検知する手段を含む。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT