| 出願番号 |
特願2006-143925 |
| 出願日 |
2006/5/24 |
| 出願人 |
国立大学法人 宮崎大学 |
| 公開番号 |
特開2007-314825 |
| 公開日 |
2007/12/6 |
| 登録番号 |
特許第4839438号 |
| 特許権者 |
国立大学法人 宮崎大学 |
| 発明の名称 |
被膜生成方法および被膜生成装置 |
| 技術分野 |
金属材料、電気・電子、機械・加工 |
| 機能 |
表面処理、機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
基板表面に被膜を生成する被膜生成方法、基板表面に被膜を生成する被膜生成装置 |
| 目的 |
従来のレーザーアブレーション法では、固体ターゲットを蒸散させて成膜するので、固体ターゲットが削れ、レーザー光照射条件が変化していくため、固体ターゲットを回転させたり、移動させるための移動機構を備えたターゲット保持装置が必要であった。また、固体ターゲットが削れるため、広い面積の被膜を生成する場合に問題があった。また、膜厚にムラができる等の成膜の質が低下する問題もあった。そこで、長期間一定条件でターゲットを蒸散可能にするとともに、高品質、大面積の被膜を生成可能な方法・装置を提供する。 |
| 効果 |
液体ターゲットを使用することにより、固体ターゲットを使用する従来技術に比べ、ターゲットが削れたり、減ったりすることがなく、溶液を適宜補給することで、長期間一定条件でターゲットを蒸散可能にできるとともに、高品質、大面積の被膜を生成することができる。 |
技術概要
 |
この被膜生成方法は、レーザー光が照射される蒸散領域に、被膜原料を含む被膜原料溶液により構成された液体ターゲットを供給し、蒸散領域で蒸散した被膜原料を基板表面に堆積することにより、基板に被膜原料を組成に含む被膜を生成する方法である。溶質としての被膜原料を含む被膜原料溶液を使用するか、或いは、被膜原料の微粒子が分散され懸濁した被膜原料溶液、好ましくは、被膜原料としてのスズの微粒子が水に分散されたスズ微粒子分散溶液により構成された液体ターゲット（好ましくは、重量濃度１７％以上のスズ微粒子分散溶液により構成された液体ターゲット）を使用する。用いられる被膜生成装置は、蒸散室内に設定された蒸散領域に、被膜原料が含まれる被膜原料溶液により構成された液体ターゲットを供給する液体ターゲット供給装置と、蒸散領域に被膜原料を蒸散させるレーザー光を照射するレーザー光源装置と、被膜原料を組成に含む被膜が形成される基板を蒸散領域の近傍に支持する基板支持部材とを備えた装置からなる。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【試作】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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