Mw/Mnが1.25以下であるポリマーの製造方法

開放特許情報番号
L2009003656
開放特許情報登録日
2009/5/22
最新更新日
2009/5/22

基本情報

出願番号 特願2008-210576
出願日 2008/8/19
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 特開2009-067999
公開日 2009/4/2
発明の名称 Mw/Mnが1.25以下であるポリマーの製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 Mw/Mnが1.25以下であるポリマー
目的 反応温度が−28℃以上でも分子量分布が狭いポリマーを効率よく製造することができる、M↓w/M↓nが1.25以下であるポリマーの製造方法及び、連続的な工程で製造でき、M↓w/M↓nが1.25以下であるブロックポリマーの製造方法を提供する。
効果 反応温度が−28℃以上でも分子量分布が狭いポリマーを効率よく製造することができる、M↓w/M↓nが1.25以下であるポリマーの製造方法及び、連続的な工程で製造でき、M↓w/M↓nが1.25以下であるブロックポリマーの製造方法を提供できる。
技術概要
複数の液体を混合可能な流路を備えるマイクロリアクターを用いて、モノマーを開始剤の存在下でリビング重合させる、M↓w/M↓nが1.25以下であるポリマーの製造方法である。リビング重合はリビングアニオン重合である。リビング重合における反応温度は、−28℃以上である。開始剤は有機リチウム試薬である。流路にモノマーを導入する第一の導入路、及び、流路に開始剤を導入する第二の導入路の内径が、それぞれ500μm以下である。モノマーが流速3ml/min以上で、開始剤が流速1ml/min以上で、それぞれ流路に導入される。モノマーが導入される流速と、開始剤が導入される流速との比率を変えることによって、ポリマーの分子量を制御する。流路にモノマーを導入する第一の導入路におけるモノマーの濃度は、1.5M以上である。モノマーは、スチレンであり、官能基を有してもよい。開始剤はアルキルリチウムであり、sec−ブチルリチウムが好ましい。モノマーがメチルメタクリレートである。嵩高い分子及び立体障害の大きな分子のいずれかが、メチルスチリルリチウム、ジフェニルメチルフェニルリチウム及びジフェニルヘキシルリチウムのいずれかである。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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