化学プロセスの反応温度制御装置,反応温度制御方法並びに反応温度制御システム

開放特許情報番号
L2009003534
開放特許情報登録日
2009/5/22
最新更新日
2009/5/22

基本情報

出願番号 特願2003-081709
出願日 2003/3/25
出願人 株式会社日立製作所
公開番号 特開2004-283780
公開日 2004/10/14
登録番号 特許第3997939号
特許権者 株式会社日立製作所
発明の名称 化学プロセスの反応温度制御装置,反応温度制御方法並びに反応温度制御システム
技術分野 無機材料
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 化学プロセスの反応温度制御装置 反応温度制御システム
目的 本発明の目的は、化学プロセスで化学反応が行われる反応器内の反応温度を安定させることにある。
効果 本発明によれば、化学プロセスで化学反応が行われる反応器内の反応温度を安定させることが可能である。
技術概要
 
本発明は、前記反応温度計測値と外乱データベースからのデータとに基づいて、ジャケット温度補正量を算出する前記ジャケット温度補正量演算手段と、操作手順制御の実行の有無,反応器圧力計測値,該反応温度計測値に基づいて前記ジャケット温度補正の要否を判定する手段と、前記判定手段で補正を必要と判断した場合に前記ジャケット温度補正量により補正する補正手段を備えたことを特徴とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 特許通常実施権の許諾(非独占)

登録者情報

登録者名称 株式会社日立製作所

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT