| 出願番号 |
特願2006-313632 |
| 出願日 |
2006/11/20 |
| 出願人 |
国立大学法人京都大学 |
| 公開番号 |
特開2008-130343 |
| 公開日 |
2008/6/5 |
| 登録番号 |
特許第4982851号 |
| 特許権者 |
国立大学法人京都大学 |
| 発明の名称 |
プラズマ生成装置、表面処理装置、および流体改質装置 |
| 技術分野 |
電気・電子、機械・加工 |
| 機能 |
機械・部品の製造、表面処理 |
| 適用製品 |
プラズマ生成装置、表面処理装置、表示装置、および流体改質装置 |
| 目的 |
プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。 |
| 効果 |
プラズマ生成装置は、第１導電体と第２導電体とが絶縁層を介して互いに接触する接触部の周囲における、第１導電体と上記絶縁層との間、第２導電体と絶縁層との間、絶縁層同士の間のいずれか１つ以上に、プラズマ化する流体に晒された隙間が形成されている。それゆえ、隙間において、流体圧力を低くすることなく、流体圧力と放電距離との積を小さくすることができ、低電圧で安定してプラズマを生成することができる。 |
技術概要
 |
図１は、プラズマ生成装置１０の概略構成を示す図である。プラズマ生成装置１０は、導体線４が絶縁層５によって被覆されてなる第１絶縁被覆線（第１電極）１と、導体線６が絶縁層７によって被覆されてなる第２絶縁被覆線（第２電極）２と、電源３とを備えている。第１絶縁被覆線１と第２絶縁被覆線２とは互いに撚り合わされて撚線構造（撚糸構造）からなるプラズマ生成部８を形成している。つまり、第１絶縁被覆線１と第２絶縁被覆線２とは互いに捻れながら当接している。電源３は、一端を第１絶縁被覆線１に接続され、他端を第２絶縁被覆線２に接続されており、これら両絶縁被覆線間に交流電圧（高周波電圧）を印加する。電源３によって両絶縁被覆線間に電圧が印加されると、両絶縁被覆線の接触部近傍における両絶縁被覆線間の隙間において図１に示すようにプラズマＰが生成される。図２は表面処理装置の概略構成を示す図である。図３は表示装置の概略構成を示すブロック図である。図４は流体改質装置の概略構成を示す図である。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【試作】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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