| 出願番号 |
特願2006-083679 |
| 出願日 |
2006/3/24 |
| 出願人 |
国立大学法人京都大学 |
| 公開番号 |
特開2007-254869 |
| 公開日 |
2007/10/4 |
| 登録番号 |
特許第4940425号 |
| 特許権者 |
国立大学法人京都大学 |
| 発明の名称 |
原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置 |
| 技術分野 |
電気・電子、情報・通信、無機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造、制御・ソフトウェア |
| 適用製品 |
簡便な操作で実施でき、電気・電子分野、半導体分野等で広く利用される。 |
| 目的 |
基板表面に生成される膜の表面粗度が低く、大型基板の成膜にも用いることができるエアロゾル浮遊ガスにも適用が可能な原料ガス噴出用ノズル、及び、これを備えた化学的気相成膜装置を提供する。 |
| 効果 |
基板表面に生成される膜の表面粗度が中心から端部に至るまで非常に低く、大型基板の成膜にも適用できる。 |
技術概要
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原料ガスを内部に供給するための１つ以上の原料ガス供給口を有するガスだまり部９と、一端に形成された開口部１０ａと、ガスだまり部から開口部まで原料ガスを導出する導出部１０ｂとを有する原料ガス噴出部１０とを備え、開口部の断面が扁平形状である、原料ガス噴出用ノズル２１である。尚、原料ガス供給口の総断面積Ｓ↓ｉと開口部の断面積Ｓ↓ｏとが、１≦Ｓ↓ｉ／Ｓ↓ｏ≦４の関係を有している。また、導出部内部の壁面に平面を有しており、第２の平面と導出部の平面とが、同一平面上に形成されており、導出部の内部空間が、ガスだまり部からつば状に突き出た形状である。更に、原料ガス噴出用ノズルと、ガスだまり部に接続され開口された１つ以上の原料ガス供給管と、開口部に接続されている成膜室とを備え、成膜室に配置した基板の表面に原料ガス噴出用ノズルから原料ガスを噴出させ、基板の表面に膜を生成する化学的気相成膜装置を製造する。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【有】 |
| 許諾実績 |
【有】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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