原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置

開放特許情報番号
L2009003305
開放特許情報登録日
2009/5/15
最新更新日
2012/7/30

基本情報

出願番号 特願2006-083679
出願日 2006/3/24
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 特開2007-254869
公開日 2007/10/4
登録番号 特許第4940425号
特許権者 国立大学法人京都大学
発明の名称 原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置
技術分野 電気・電子、情報・通信、無機材料
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 簡便な操作で実施でき、電気・電子分野、半導体分野等で広く利用される。
目的 基板表面に生成される膜の表面粗度が低く、大型基板の成膜にも用いることができるエアロゾル浮遊ガスにも適用が可能な原料ガス噴出用ノズル、及び、これを備えた化学的気相成膜装置を提供する。
効果 基板表面に生成される膜の表面粗度が中心から端部に至るまで非常に低く、大型基板の成膜にも適用できる。
技術概要
原料ガスを内部に供給するための1つ以上の原料ガス供給口を有するガスだまり部9と、一端に形成された開口部10aと、ガスだまり部から開口部まで原料ガスを導出する導出部10bとを有する原料ガス噴出部10とを備え、開口部の断面が扁平形状である、原料ガス噴出用ノズル21である。尚、原料ガス供給口の総断面積S↓iと開口部の断面積S↓oとが、1≦S↓i/S↓o≦4の関係を有している。また、導出部内部の壁面に平面を有しており、第2の平面と導出部の平面とが、同一平面上に形成されており、導出部の内部空間が、ガスだまり部からつば状に突き出た形状である。更に、原料ガス噴出用ノズルと、ガスだまり部に接続され開口された1つ以上の原料ガス供給管と、開口部に接続されている成膜室とを備え、成膜室に配置した基板の表面に原料ガス噴出用ノズルから原料ガスを噴出させ、基板の表面に膜を生成する化学的気相成膜装置を製造する。
イメージ図
実施実績 【有】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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