電子線発生方法および装置

開放特許情報番号
L2009003300
開放特許情報登録日
2009/5/15
最新更新日
2012/11/28

基本情報

出願番号 特願2006-032599
出願日 2006/2/9
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 特開2007-212294
公開日 2007/8/23
登録番号 特許第5082089号
特許権者 国立大学法人京都大学
発明の名称 電子線発生方法および装置
技術分野 電気・電子、金属材料、無機材料
機能 制御・ソフトウェア、材料・素材の製造
適用製品 簡便な操作で実施でき、滅菌分野、塗料分野等で広く利用される。
目的 高エネルギでかつ大電流の電子線を発生することができる、電子線発生方法および装置を提供する。
効果 プラズマ閉じ込め装置によって高エネルギの電子を発生し、それを大量に引き出すことができ、かつ、消耗性の部品はなく、加速効率も原理的にきわめて大きい。そのため、従来は不可能であったような大量の物質の電子線照射処理が効率的にかつ経済的に実施できる。
技術概要
円環形の閉じ込め磁気面によってプラズマを閉じ込める装置を用いて電子線を発生する方法であって、閉じ込めたプラズマに誘導起電力による電圧を印加することによって円環を周回する電子を加速し、高エネルギの電子を発生させ、そして閉じ込め磁気面の一部を破って装置の外へ電子を引き出す。尚、円環形の閉じ込め磁気面によって真空容器12内にプラズマを閉じ込める装置、閉じ込めたプラズマを誘導起電力による電圧を印加するための誘導起電力発生手段、及び閉じ込め磁気面の一部を破って真空容器12の外へ電子を引き出す引出し手段を備える、電子線発生装置10である。また、引出し手段は、真空容器12から外に向かう磁力線を発生させるための第1磁力線発生手段を含み、また、閉じ込め磁気面の形状を制御するための第2磁力線を発生する第2磁力線発生手段をさらに備える。
イメージ図
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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