| 出願番号 |
特願2005-220458 |
| 出願日 |
2005/7/29 |
| 出願人 |
国立大学法人京都大学 |
| 公開番号 |
特開2007-031812 |
| 公開日 |
2007/2/8 |
| 登録番号 |
特許第4590560号 |
| 特許権者 |
国立大学法人京都大学 |
| 発明の名称 |
有機単分子膜成膜装置及び該方法 |
| 技術分野 |
電気・電子 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
有機薄膜を利用した電子デバイス等に有用な有機単分子膜の成膜装置に適用する。 |
| 目的 |
真空中で蒸発した原料を基板上に被着させて有機単分子膜を成膜する有機単分子膜成膜装置を提供する。 |
| 効果 |
真空中において基板上に有機単分子膜を成膜できるようになり、これにより、有機単分子膜を備える電子デバイスを真空下で一貫して製造することが可能になる等の効果を奏する。 |
技術概要
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例えば、真空チャンバ１１内に蒸着原料Ａを収容し、蒸着原料Ａを加熱源１７により加熱して蒸発させ、真空チャンバ１１内に保持した基板Ｂ上に蒸発した蒸着原料Ａによる有機単分子膜を成膜する装置であって、基板Ｂを冷却する冷却源１２と、基板Ｂにおける有機単分子膜を形成すべき領域Ｃから蒸発源としての坩堝１６の開口部を見た場合に、蒸着中、蒸発源が見えないように隠す遮蔽板１５とを備える有機単分子膜成膜装置１にする（図）。有機単分子膜成膜装置１において、蒸着原料として、特に、フッ化ビニリデンオリゴマーの場合に好適に適用される。尚、冷却した基板Ｂ上に、有機単分子膜の蒸着原料Ａを真空中において、蒸着中、蒸発源が見えないように隠す遮蔽板１５を介して蒸着することにより有機単分子膜を成膜するようにする。 |
| 実施実績 |
【試作】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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