有機単分子膜成膜装置及び該方法

開放特許情報番号
L2009003277
開放特許情報登録日
2009/5/15
最新更新日
2010/10/22

基本情報

出願番号 特願2005-220458
出願日 2005/7/29
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 特開2007-031812
公開日 2007/2/8
登録番号 特許第4590560号
特許権者 国立大学法人京都大学
発明の名称 有機単分子膜成膜装置及び該方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 有機薄膜を利用した電子デバイス等に有用な有機単分子膜の成膜装置に適用する。
目的 真空中で蒸発した原料を基板上に被着させて有機単分子膜を成膜する有機単分子膜成膜装置を提供する。
効果 真空中において基板上に有機単分子膜を成膜できるようになり、これにより、有機単分子膜を備える電子デバイスを真空下で一貫して製造することが可能になる等の効果を奏する。
技術概要
例えば、真空チャンバ11内に蒸着原料Aを収容し、蒸着原料Aを加熱源17により加熱して蒸発させ、真空チャンバ11内に保持した基板B上に蒸発した蒸着原料Aによる有機単分子膜を成膜する装置であって、基板Bを冷却する冷却源12と、基板Bにおける有機単分子膜を形成すべき領域Cから蒸発源としての坩堝16の開口部を見た場合に、蒸着中、蒸発源が見えないように隠す遮蔽板15とを備える有機単分子膜成膜装置1にする(図)。有機単分子膜成膜装置1において、蒸着原料として、特に、フッ化ビニリデンオリゴマーの場合に好適に適用される。尚、冷却した基板B上に、有機単分子膜の蒸着原料Aを真空中において、蒸着中、蒸発源が見えないように隠す遮蔽板15を介して蒸着することにより有機単分子膜を成膜するようにする。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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