プラズマ処理装置

開放特許情報番号
L2009003069
開放特許情報登録日
2009/5/15
最新更新日
2009/5/15

基本情報

出願番号 特願平10-172546
出願日 1998/6/19
出願人 株式会社日立製作所
公開番号 特開2000-012290
公開日 2000/1/14
登録番号 特許第3855468号
特許権者 株式会社日立製作所
発明の名称 プラズマ処理装置
技術分野 電気・電子
機能 その他
適用製品 プラズマ処理装置
目的 本発明の目的は、処理室に供給した電磁波の電力分布をより均一化できるプラズマ処理装置を提供することにある。
効果 本発明によれば、処理室に供給する高周波電力を円偏波とすることができ、処理室内に発生するプラズマを円偏波により回転する電磁界を用いてより均一化することができる。
技術概要
 
本発明は、処理室に導波管を介して高周波電力を供給し、処理室に高周波電力によりプラズマを発生して処理装置内の試料をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、処理室に高周波電力を供給する導波管に円偏波発生器を介在し、処理室内に円偏波を供給し、マイクロ波電磁界を回転させ、角度方向により均一なプラズマを生成する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 特許通常実施権の許諾(非独占)

登録者情報

登録者名称 株式会社日立製作所

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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