高度清浄装置、局所清浄システムおよびオゾン分解フィルタとその製造方法

開放特許情報番号
L2009003038
開放特許情報登録日
2009/5/15
最新更新日
2009/5/29

基本情報

出願番号 特願平11-228056
出願日 1999/8/11
出願人 高砂熱学工業株式会社
公開番号 特開2001-046822
公開日 2001/2/20
登録番号 特許第4166909号
特許権者 高砂熱学工業株式会社
発明の名称 高度清浄装置,局所清浄システム及びオゾン分解フィルタとその製造方法
技術分野 機械・加工、化学・薬品、土木・建築
機能 洗浄・除去、機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 ケミカル汚染対策設備、ガス状不純物対策設備、建築設備、電子電子機器工場、クリーンルーム
目的 ガス不純物(分子汚染物質)の一括除去。生産工程のオゾンを合理的に除去する。
効果 上記目的の実現
技術概要
 
酸化マンガンを担持したオゾン分解フィルタを用いた下記@〜Bいずれかの発明。 @空気循環路に、ファン、高性能フィルタのほか、前記オゾン分解フィルタ、その上流に酸化マンガンのオゾン分解性能を劣化させるガス状汚染物を除去するフィルタ(例えば酸性ガス用ケミカルフィルタ)を設けた高度清浄装置。 A上記@のうち空気循環の要件を備えず(一過式を権利範囲に含む)、空間への供給ガスを不活性ガスまたは低露点空気とした局所清浄システム。 B比表面積が60m2/g以下の電解二酸化マンガンの粉末を、次のa.b.いずれかの無機物をバインダとして無機材料からなる支持体に担持させた、オゾン分解フィルタ。 a.細孔径が15〜300オングストロームの範囲に分布する細孔の総容積が重量当たり0.2cc/g以上、b.細孔径が15〜300オングストロームの範囲に分布する細孔の比表面積が100m2/g以上。 C前記Bのフィルタの製造方法で、粉末状の前記マンガンと前記無機バインダを分散させた懸濁液に前記支持体を含浸させた後乾燥させる製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 高砂熱学工業株式会社

事業化情報

事業化条件
特別資格 【不要】 
必要設備 【無】 
必要環境 【無】 
設備費用 【無】 
ポテンシャル 【不要】 
マーケット情報 【無】 
質的条件
事業化実績 【無】 
追加開発 【不要】 
その他情報 【不要】 

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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