高分子薄膜の成膜方法、及び高分子薄膜

開放特許情報番号
L2009002945
開放特許情報登録日
2009/5/8
最新更新日
2009/5/8

基本情報

出願番号 特願2007-006395
出願日 2007/1/15
出願人 国立大学法人山梨大学
公開番号 特開2008-168597
公開日 2008/7/24
発明の名称 高分子薄膜の成膜方法、及び高分子薄膜
技術分野 化学・薬品、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 高分子薄膜
目的 例えば10μm以下の薄膜であってもその形成が容易であり、かつ表面平坦性が確保されている高分子薄膜の成膜方法を提供する。
効果 10μm未満の超薄膜であっても、表面の平坦性を確保した高分子薄膜を容易に成膜可能である。
技術概要
図1は、高分子薄膜の成膜工程を示すフローチャート図である。先ず、グラッシーカーボン(GC)の基板表面を研磨して鏡面に仕上げた後、洗浄液を用いて洗浄する(S1)。次に、基板表面への触媒分散液への塗布は、水平に静置した基板の表面に、所定量の分散液を滴下し、液の自重で拡散して被覆される方法によればよい。高分子溶液の乾燥は、乾燥速度の制御のため、とくに分散液中の有機溶媒の蒸発速度を遅らせるために、この有機溶媒の飽和蒸気圧付近で乾燥を行う(S3)。例えば有機溶媒がエタノールにより、20℃で乾燥を行うのであれば、雰囲気のエタノール蒸気圧を0.058atm付近として乾燥を行えばよい。これにより、高分子層の厚みが不均一になったり、乾燥中に変形したりするのを防止することができる。これらの工程により、膜厚が均一な高分子薄膜を成膜することができる。なお、高分子薄膜を成膜後、さらに仕上乾燥してもよい(S4)。仕上乾燥の条件は、とくに限定を要しないが、例えば空気中120℃で1時間程度乾燥すればよい。また、高分子薄膜の膜厚が10μm以下であり、その表面粗さが0.2μm以下である高分子薄膜である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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