改質多孔質支持体膜及びその製造方法

開放特許情報番号
L2009002893
開放特許情報登録日
2009/5/1
最新更新日
2013/8/29

基本情報

出願番号 特願2005-233358
出願日 2005/8/11
出願人 学校法人明治大学
公開番号 特開2007-045969
公開日 2007/2/22
登録番号 特許第5283311号
特許権者 学校法人明治大学
発明の名称 改質多孔質支持体膜及びその製造方法
技術分野 有機材料、化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 改質多孔質支持体膜、分離膜・ろ過材料・フィルム・薄膜及び基板等として好適に用いることのできる改質多孔質支持体膜
目的 多孔質膜は、水処理、バイオ、食品、医療、診断、半導体、理化学分析等の多くの分野で用いられている。多孔質膜の製造方法としては、種々の方法が知られているが、一般に、多孔質膜はその孔径を所望の大きさにすることで分離能等を調製するが、多孔質膜の孔径が小さくなるにつれてその製造は困難になり、製造コストが高くなるという問題点を有する。そこで、かかる問題のない、多孔質支持体膜の孔径を小さくした改質多孔質支持体膜及びその製造方法を提供する。
効果 この技術によれば、撥水性や表面張力などの多孔質支持体膜の表面特性を損なうことなく、孔径のみを小さくでき、かつ、低コストである改質多孔質支持体膜及びその製造方法を提供することができる。
技術概要
この改質多孔質支持体膜の製造方法は、少なくとも、孔径構造を有する多孔質支持体膜、及び、この支持体膜を形成する物質とは異質の高分子からなる改質多孔質支持体膜の製造方法であって、支持体膜内部に、この高分子を溶媒に溶解した高分子溶液を透過させる透過工程、及び、支持体膜の孔径構造表面に付着した溶液から溶媒を蒸発させることにより、高分子が付着した高分子付着層を孔径構造表面に形成する高分子付着工程からなる。好ましくは、多孔質支持体膜が、相対する2つの外表面の近傍にある2つの表面領域、及び、これら2つの表面領域に挟まれ、かつ、表面領域の孔径よりも小さい孔径である内部領域からなる三層構造を有する膜であり、高分子付着工程においてこの内部領域における孔径構造表面に高分子が付着し、この改質多孔質支持体膜の孔径が、改質前の多孔質支持体膜の孔径よりも小さい改質多孔質支持体膜である。孔径は、2nm〜1μmである。好ましくは、多孔質支持体膜が、親水性ポリビニリデンフルオライド、疎水性ポリビニリデンフルオライド、ナイロンより選ばれ、高分子が、ポリ(1−トリメチルシリル−1−プロピン)又はポリイミドである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 明治大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT