有機アクティブ素子およびその製造方法、表示デバイス

開放特許情報番号
L2009002622
開放特許情報登録日
2009/4/10
最新更新日
2009/4/10

基本情報

出願番号 特願2003-068160
出願日 2003/3/13
出願人 日本放送協会
公開番号 特開2004-281529
公開日 2004/10/7
登録番号 特許第4217086号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 有機アクティブ素子およびその製造方法、表示デバイス
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 ガラス転移温度、電子デバイス、電子ディスプレイ、耐薬品性、素子特性
目的 適度のバリヤ性を有するとともにパッシベーション膜を形成する際に生じ得る素子の特性の劣化が小さい、バリヤ性と素子特性の劣化防止のバランスのよい有機アクティブ素子およびその有機アクティブ素子を備えた表示デバイスの提供。
効果 バリヤ性と素子特性の劣化防止のバランスのよい有機アクティブ素子を得ることができる。また、有機アクティブ素子の基板がプラスティックフィルム基板であるため、ダメージのないフレキシブルな基板を好適に得ることができる。
技術概要
この技術では、有機アクティブ素子は、基板に作製され、パッシベーション膜で覆われてなる有機アクティブ素子において、パッシベーション膜が、ガスバリヤ性を有する第1の有機膜と、第1の有機膜上に紫外性硬化樹脂を用いて形成される第2の有機膜とで構成される。第1の膜および第2の膜は、それぞれ、単層膜であってもよく、また、複数層からなる積層膜でであってもよい。第1の膜は、下地となる有機TFTに損傷を与えるおそれのない材料および作製方法により形成される。また、第1の膜は、適度のガスバリヤ性を有する材料で形成される。すなわち、第1の膜は、有機溶剤を溶剤として用いることなく例えば水に溶解して溶液とし、この溶液を塗布法によりあるいは溶液中に浸漬して成膜することができ、また得られる膜が適度のバリヤ性を有する有機材料を用いて形成される。このため、第1の膜は、有機TFTにダメージを与えることなく簡易な方法により形成することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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