アルミナミクロ多孔膜およびその製造方法
- 開放特許情報番号
- L2009002469
- 開放特許情報登録日
- 2009/3/27
- 最新更新日
- 2009/3/27
基本情報
出願番号 | 特願2007-009762 |
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出願日 | 2007/1/19 |
出願人 | 国立大学法人信州大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2008/7/31 |
発明の名称 | アルミナミクロ多孔膜およびその製造方法 |
技術分野 | 化学・薬品 |
機能 | 材料・素材の製造 |
適用製品 | アルミナミクロ多孔膜 |
目的 | 直径2nm以下の細孔を均一分散させたアルミナ質多孔膜を得る。 |
効果 | 直径2nm以下の細孔を均一分散させたアルミナ質多孔膜を提供することができる。 |
技術概要![]() |
微細空孔全体の80体積%以上が直径2nm以下のミクロ孔であり、膜成分の1点式BET法により測定される比表面積が500m↑2/g以上であるアルミナミクロ多孔膜としている。このようなアルミナミクロ多孔膜は、その微細空孔(ミクロ孔)を利用した分離膜、その高い比表面積を利用した化学反応基体としての応用に適している。特に、当該アルミナミクロ多孔膜は、より高い機能を有する触媒担体あるいは分子分離膜に利用できる。図1に、アルミナミクロ多孔膜の好適な製造工程を示す。アルミナミクロ多孔膜の製造方法は、アルミニウムアルコキシドと、反応促進剤と、異なる2種類以上のアルコールを混合してなる溶媒と、水とを混合して、コロイドゾル溶液を作製するゾル溶液作製工程S101と、コロイドゾル溶液を用いて膜を作製する成膜工程S102と、得られたアルミニウムミクロ多孔膜用のゾル(コロイドゾル)を乾燥する乾燥工程S103と、試料を加熱する工程S104とを含む。加熱温度は、80〜900℃の範囲が好ましい。加熱時間は、1〜5時間程度が好ましい。より好ましくは、200〜400℃の温度で2時間程度、加熱するのが良い。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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