シリカ疎水膜の製造方法

開放特許情報番号
L2009002468
開放特許情報登録日
2009/3/27
最新更新日
2009/3/27

基本情報

出願番号 特願2007-008309
出願日 2007/1/17
出願人 国立大学法人信州大学
公開番号 特開2008-174411
公開日 2008/7/31
発明の名称 シリカ疎水膜の製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリカ疎水膜
目的 酸や塩基を用いることのないシリカ疎水膜の製造方法を提供する。
効果 酸や塩基を用いることのないシリカ疎水膜の製造方法を提供することができる。
技術概要
シリカ疎水膜の製造方法であって、1つ以上3つ以下の加水分解官能団を有するシランカップリング剤、反応促進剤としてヒドロキシアルデヒド誘導体、ヒドロキシ酢酸誘導体、アリルアルコール誘導体およびヒドロキシニトリル誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、アルコール系溶媒および水を少なくとも含む混合物をゾル化させるゾル溶液作製工程と、ゾル溶液作製工程にて得られたゾル溶液を基材上に塗布して、ゾル状薄膜を形成するゾル状薄膜作製工程と、ゾル状薄膜を加熱してシリカ疎水膜を形成する加熱工程とを含む。また、シランカップリング剤は、R↓n−SiX↓4↓−↓n(式中、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、ビニル基、フェニル基等の官能団、Xはアルコキシ基、塩素原子等の加水分解官能団、RまたはXが複数存在する場合には同一でも異なっていても良い。nは1〜3の整数を示す。)で示される有機珪素化合物または/およびその誘導体であるシリカ疎水膜の製造方法である。図1はシリカ疎水膜の製造方法を示すフローチャートである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 株式会社信州TLO

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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