義眼を含むエピテーゼ製作方法、エピテーゼ製作支援装置およびエピテーゼ製作支援プログラム

開放特許情報番号
L2009002433
開放特許情報登録日
2009/3/27
最新更新日
2009/3/27

基本情報

出願番号 特願2005-344494
出願日 2005/11/29
出願人 国立大学法人佐賀大学
公開番号 特開2007-143976
公開日 2007/6/14
登録番号 特許第4096063号
特許権者 国立大学法人佐賀大学
発明の名称 義眼を含むエピテーゼ製作方法、エピテーゼ製作支援装置およびエピテーゼ製作支援プログラム
技術分野 電気・電子、情報・通信、有機材料
機能 材料・素材の製造、安全・福祉対策
適用製品 簡便な操作で実施でき、顔面の目の欠損を修復する分野等で広く利用される。
目的 製作者の熟練によらず、エピテーゼ製作の精度を高めることが可能なエピテーゼ製作方法、エピテーゼ製作支援装置及びエピテーゼ製作支援プログラムを提供する。
効果 患部を含む模型上に形状回復した画像が立体的に再現されるので、この患部を含む模型上でエピテーゼの修正を行うことにより、この患部を含む模型上に再現された形状回復した画像をそのままエピテーゼ上に反映させることができる。
技術概要
患者の顔面の目の欠損部を含む目を閉じた状態の顔面模型40を製作し、患者の顔面の目を含む欠損部を目が開いた状態で形状回復した画像を、目を閉じた状態の顔面模型上に等倍で投影し、この形状回復した画像を投影した目を閉じた状態の顔面模型上でエピテーゼ30の修正を行うことにより、義眼を含むエピテーゼを製作する。また、患者の顔面の目の欠損部を含む目を開いた状態の写真画像を入力する手段10と、入力された写真画像上で患者の顔面の目を含む欠損部を形状回復させる手段と、患者の欠損部を目が開いた状態で形状回復した画像を、患者の目を閉じた状態の顔面模型上に等倍で投影する手段とを有する義眼を含む、エピテーゼ製作支援装置を構成する。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT