| 出願番号 |
特願2006-093877 |
| 出願日 |
2006/3/30 |
| 出願人 |
国立大学法人 千葉大学 |
| 公開番号 |
特開2007-269853 |
| 公開日 |
2007/10/18 |
| 登録番号 |
特許第4631059号 |
| 特許権者 |
国立大学法人 千葉大学 |
| 発明の名称 |
光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー |
| 技術分野 |
電気・電子、有機材料 |
| 機能 |
機械・部品の製造、材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
光硬化材料、光記録材料、レーザーダイレクトイメージングによるパターン形成、半導体加工、光を吸収することによって酸を発生する材料 |
| 目的 |
印刷版及びプリント基板製造分野においては、レーザーダイレクトイメージング技術の普及加速化に伴い、可視光レーザー対応高感度光開始系の構築が切望されていること、酸素阻害の影響がなく、ネガおよびポジ型のリソグラフィー材料をつくれる自由度のある高感度光酸発生系による反応開始材料が求められていたが、十分な感度をもつ光酸発生剤がなかったことの改善。 |
| 効果 |
オキシム系光酸発生剤分子の直接光励起による酸発生効率より、増感剤とオキシム系光酸発生剤による組み合わせは、およそ１０倍以上の酸の発生を示す。これは、電子移動反応、ここでは増感剤による光電子移動反応によってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが特異的に高効率で酸を発生するものと認められる。理論的な分子モデリングからＮ−Ｏ結合付近にラジカルスピン密度が局在化することにより、結合開裂が高効率で生じると考えられる。 |
技術概要
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この技術は、増感剤とさまざまな酸発生剤についてその増感機構やフォトリソグラフィー材料としての感度を研究したところ、光励起された増感剤からの電子移動によって生成するオキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンからの酸発生が異様に高いことを見出したことに基づく。すなわち、増感剤とオキシム系光酸発生剤が光電子移動を起こし、オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンから反応が開始される光酸発生材料である。ピロメテン系色素を増感剤とし、オキシム系光酸発生剤とした光酸発生材料である。光電子移動反応などによってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが、Ｎ−Ｏ結合付近にラジカルスピン密度が局在化し、それにより、結合開裂が高効率で生じるオキシム系光酸発生剤である。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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