| 出願番号 |
特願2005-211948 |
| 出願日 |
2005/7/21 |
| 出願人 |
国立大学法人 千葉大学 |
| 公開番号 |
特開2007-033472 |
| 公開日 |
2007/2/8 |
| 登録番号 |
特許第4487069号 |
| 特許権者 |
国立大学法人 千葉大学 |
| 発明の名称 |
光パターニング材料および光パターン形成方法 |
| 技術分野 |
電気・電子、化学・薬品 |
| 機能 |
機械・部品の製造、材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
化学的にソフトなフォトリソグラフィー材料、画像形成技術、半導体加工、配線用レジスト、印刷製版 |
| 目的 |
リソグラフィー材料に環境調和型の化合物として天然に存在するような物質を使おうとすると、発生するラジカルや酸、加熱工程によって変質しやすく用いることができる物質が限られてしまう問題があることに鑑み、生体物質に親和性があり、かつ温和な反応条件で、光によるパターニングを可能にする光パターニング材料および光パターン形成方法の提供。 |
| 効果 |
ビリルビン（Ｂｉｌｉｒｕｂｉｎ）またはビリルビン誘導体を用いる感光性薄膜は、薄膜中に従来技術のような反応性の高いラジカルや酸、塩基など発生する光開始剤を特に必要とせず、露光した部分の水またはアルカリ溶液における溶解度が向上し、パターン形成が可能である。 |
技術概要
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この技術は、生体物質に親和性があり、かつ温和な反応条件によって光によりパターニング可能とするため、少なくとも、ビリルビン（Ｂｉｌｉｒｕｂｉｎ）またはビリルビン誘導体を感光性薄膜とする。ビリルビンまたはビリルビン誘導体は、分子内に光を吸収する部位と、これにより光シスートランス異性化をともない分子構造を大きく変化する部位をもつとともに、分子内もしくは分子間で水素結合をつくる部位を有する。したがって、ビリルビンまたはビリルビン誘導体を用いる感光性薄膜の光照射による溶解度の差は、光シスートランス異性化に引き続いて行なわれる水素結合の変化によっておこると考えられ、これによって溶媒和可能なフリーの極性基が出現するため、薄膜中に反応性の高いラジカルや酸、塩基などを必要とせずパターニングできたものと考えられる。これにより、成膜時の溶媒除去以外の加熱プロセスを必要としないばかりでなく、希薄なアルカリ水溶液で可能であり、環境負荷が小さく新規なソフトな光リソグラフィー材料を実現する。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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