光による分子の注入方法及び光による材料加工方法並びにそれらの装置

開放特許情報番号
L2009002216
開放特許情報登録日
2009/3/27
最新更新日
2015/10/7

基本情報

出願番号 特願2006-146806
出願日 2006/5/26
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2007-313610
公開日 2007/12/6
登録番号 特許第5205669号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 光による分子の注入方法及び光による材料加工方法並びにそれらの装置
技術分野 電気・電子
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 ポリマー薄膜の表面微細加工、分子素子の製造
目的 光によりサブミクロン、即ちnmオーダーの微小注入領域に分子を注入することができる、新規な、光による分子の注入方法及びその装置の提供。
効果 本技術の光による分子の注入方法及びその装置によれば、これまで不可能であった500nm以下の領域へ、種々の基板への各種の分子の注入や固定を行なうことができる。又、光励起により液体の衝撃波を誘起し、材料の加工を行なうことが可能となる。
技術概要
本技術の光による分子の注入装置は、基板と、分子を含む分子注入源と、基板及び分子注入源の間に配置した液体と、基板及び分子注入源を外側から挟持する挟持部と、から構成した分子供給体と、分子供給体を載置するステージと、分子注入源に集光した光を照射する光源と、を含み、分子注入源に含まれる分子を液体を介して基板に注入する。液体を介して、基板に分子を注入することができ、注入領域の大きさをnmオーダーの微小領域とすることができる。ここで、注入する分子は、吸光特性と熱安定性を持ち、光励起できるものであれば何でもよく、各種の機能性分子であってもよい。好適には、光あるいは電子機能性を有する分子の1種以上のものを使用することができる。具体的には、クマリン6、クマリン545、ZnTPP、アントラセン、ジシアノアントラセン、NileRe d、フルオレッセイン、ビレン等が挙げられる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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