酸化イットリウム焼結体

開放特許情報番号
L2009002200
開放特許情報登録日
2009/3/27
最新更新日
2015/10/6

基本情報

出願番号 特願2008-209430
出願日 2008/8/18
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2008-273838
公開日 2008/11/13
登録番号 特許第4781407号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 酸化イットリウム焼結体
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造、加熱・冷却
適用製品 酸化イットリウム焼結体、レ−ザホスト材料・高温用装置の観察窓・放電灯用発光管等に使用される酸化イットリウム焼結体
目的 酸化イットリウム焼結体は、純度が高く微細な粒径を有する酸化イットリウム粉末を使用することにより、透明度が高く、光線の直線透過率が高いものが得られる。しかし、均一で微細な粒径を有する酸化イットリウム粉末を安定的に得ることが困難で、その為に高い直線透過率を有する酸化イットリウムの焼結体を得ることが出来ないでいるのが現状である。このような実情に鑑み、直線透過率を高くした酸化イットリウム焼結体を提供する。
効果 従来の、純度を高めるとの方向性からは逆の方向にありながら、添加物としてフッ素を加えることで、直線透過率を向上させられることが分り、この方法で、直線透過率が約52%以上と高く、各種の光学的用途に好適に使用できる酸化イットリウム焼結体を得ることに成功した。
技術概要
酸化イットリウム結晶体が圧密焼結された焼結体であり、結晶体の酸素の一部がフッ素に置換され、このフッ素含有量が10〜1020ppmに調整された焼結体である。この酸化イットリウムの焼結体は、特定量のフッ素を含む酸化イットリウム粉末から焼成用の成形体を調製し、これを焼成して得られる。使用する酸化イットリウム粉末は、炭酸イットリウム、しゅう酸イットリウム、硝酸イットリウム、硫酸イットリウム等のイットリウム塩を仮焼して得られるものが好適である。中でも、炭酸イットリウムを仮焼して得られる酸化イットリウム粉末が好ましい。フッ素源は、PTFE、FEP、PFA、ETFE、PCTFE、PVDF等のフッ素樹脂、フッ化アンモニウム、フッ化イットリウム等である。フッ素は、仮焼時でも、成形体の調製時でも添加することが出来る。均一にフッ素を酸化イットリウム粉末中に分散させるには、仮焼時にイットリウム塩に添加することが好ましい。仮焼時にフッ素源を添加する場合には、イットリウム塩に所定量のフッ素源を添加して酸素雰囲気中で仮焼する。炭酸イットリウムであれば、700℃〜1300℃で、3時間〜5時間の仮焼で充分である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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