ジアミン配位子及びそれを用いた触媒

開放特許情報番号
L2009001670
開放特許情報登録日
2009/3/14
最新更新日
2011/2/4

基本情報

出願番号 特願2006-217728
出願日 2006/8/10
出願人 国立大学法人 千葉大学
公開番号 特開2008-037838
公開日 2008/2/21
登録番号 特許第4654444号
特許権者 国立大学法人 千葉大学
発明の名称 ジアミン配位子及びそれを用いた触媒
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 ジアミン配位子及びそれを用いた触媒
目的 新規でより高い不斉収率で目的物を与える触媒及びそれに用いられる配位子を提供する。
効果 新規で収率の高い触媒及びそれに用いられる配位子を提供することができる。
技術概要
空気中で安定に取り扱える2価の銅錯体を触媒に用いるべく不斉反応場の設計を綿密に行ったところ、非常に高い収率にて新規光学活性配位子を得ることができた。式1で示される配位子である。式中、R↑1〜R↑5は独立に水素、アルキル基、ハロゲン基、アルコキシル基又は芳香環であり、R↑1〜R↑5は同一であっても異なっていても良い。また、R↑1、R↑2は連結して環を形成していても良い。R↑1〜R↑5の少なくともいずれかがアルキル基の場合はメチル、エチル又はプロピル基であり、ハロゲン基の場合は、フッ素基、塩素基又は臭素基のいずれかであり、芳香環の場合は、フェニル基又はピリジル基のいずれかである。式2で示される配位子である。金属に式で示される配位子が配位してなる触媒である。ビナフチル骨格の側の環状アミンは7員環であり、ビナフチル骨格が反応場に大きく張り出している。他方の環状アミンは5員環を形成し、非常にコンパクトである。このため、高度な不斉環境を強調しながら、嵩だかい2価の銅イオンとも安定な錯形成を行うことができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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