メソ細孔性ポリマーの製造方法及びその製造装置
- 開放特許情報番号
- L2009001668
- 開放特許情報登録日
- 2009/3/14
- 最新更新日
- 2011/10/7
基本情報
出願番号 | 特願2006-213362 |
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出願日 | 2006/8/4 |
出願人 | 国立大学法人 千葉大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2008/2/21 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立大学法人 千葉大学 |
発明の名称 | メソ細孔性ポリマーの製造方法及びその製造装置 |
技術分野 | 化学・薬品、有機材料 |
機能 | 材料・素材の製造 |
適用製品 | メソ細孔性ポリマーの製造装置 |
目的 | より製造が簡便なメソ細孔性ポリマーの製造方法を提供する。 |
効果 | より製造が簡便なメソ細孔性ポリマーの製造方法を提供することができる。 |
技術概要![]() |
0.05mm以上10mm未満の距離をおいて配置された一対の基板間において、二つ以上の官能基を有する芳香族低分子と、芳香族低分子の官能器と反応可能であるとともに架橋可能な官能基を有する架橋性低分子と、を反応させてメソ細孔性ポリマーを製造する方法である。一対の基板間の距離は、0.1mm以上5mm以下である。芳香族低分子は、レソルシノール、メラミン又はエポキシの少なくともいずれかであり、架橋性低分子はホルムアルデヒド又はアミンの少なくともいずれかである。好ましくは、芳香族低分子は、レソルシノール又はメラミンの少なくともいずれかであり、架橋性低分子はホルムアルデヒドである。さらに好ましくは、芳香族低分子はレソルシノール、架橋性低分子はホルムアルデヒドである。又は、芳香族低分子はエポキシであり、架橋性低分子はアミンである。一対の基板の間に配置され、かつ、切り抜かれた空間を有するスペーサーを有し、スペーサーにおける切り抜かれた空間において芳香族低分子と架橋性低分子と、を反応させる。反応は、12時間以上140時間以下行う。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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