| 出願番号 |
特願2007-531019 |
| 出願日 |
2006/8/17 |
| 出願人 |
国立大学法人 香川大学 |
| 公開番号 |
WO2007/020967 |
| 公開日 |
2007/2/22 |
| 登録番号 |
特許第4200223号 |
| 特許権者 |
国立大学法人 香川大学 |
| 発明の名称 |
マイクロレンズ用金型、マイクロレンズおよびそれらの製法 |
| 技術分野 |
機械・加工 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
回折型マイクロレンズ、屈折型マイクロレンズ |
| 目的 |
設計どおりの形状の金型が得られ、高性能な光学性能を発揮しうる屈折形マイクロレンズを製造することができる金型、マイクロレンズおよびそれらの製法の提供。 |
| 効果 |
本技術によれば、マイクロレンズ成形用凹部の真球度が高いので、完全に近い球面からなる屈折形マイクロレンズを製造できる金型が得られる。又、結晶異方性エッチングによる四角錐凹部の形成は、設計値どおりの初期形状が得られ、その後のイオン加工による湾曲面化のための基板表面の除去は正確に制御できるので、マイクロレンズ成形用凹部の形状と寸法を自在に制御できる。 |
技術概要
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この技術では、単結晶シリコン基板に異方性エッチングにより四角錐凹部を形成するエッチング工程と、四角錐凹部をイオン加工によりマイクロレンズ成形用凹部に形成するイオン加工工程とを順に実行する。ここで、エッチング工程が、表面が｛１００｝結晶面である単結晶シリコン基板に化学的な異方性エッチングを施す工法であり、イオン加工工程が、シリコン基板に対し不活性なガスをイオン化ガスとして用い、加速したイオンをシリコン基板に照射して行う除去加工である。又、四角錐凹部として正四角錐凹部を形成しておき、球面状のマイクロレンズ成形用凹部を形成する。或いは、四角錐凹部として長四角錐凹部を形成しておき、円筒面状のマイクロレンズ成形用凹部を形成する。 |
| 実施実績 |
【試作】 |
| 許諾実績 |
【有】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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