絶縁体微粒子膜とその製造方法及びそれを用いたコンデンサー

開放特許情報番号
L2009000972
開放特許情報登録日
2009/2/27
最新更新日
2010/5/7

基本情報

出願番号 特願2005-331242
出願日 2005/11/16
出願人 国立大学法人 香川大学、学校法人同志社
公開番号 特開2007-142006
公開日 2007/6/7
発明の名称 単層及び累積絶縁体微粒子膜の製造方法
技術分野 電気・電子
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 絶縁体微粒子膜、保護膜形成
目的 基材大きさが制限されることなく、真空チャンバーも必要としない絶縁体微粒子膜やその製造方法として、表面に反応性の官能基を有する有機薄膜を形成した絶縁体微粒子を用い層状の絶縁体微粒子膜とその製造方法の提供。
効果 本技術によれば、製造に特殊な真空チャンバーや高温を必要としない。また、形成された被膜にばらつきが生じないので、大面積の絶縁体微粒子膜を低コストで提供できる。
技術概要
この技術では、導電性基材表面に絶縁層として1層形成された絶縁体微粒子膜が導電性基材表面に形成された第1の有機膜と絶縁体微粒子表面に形成された第2の有機膜を介して互いに共有結合している。ここで、導電性基材表面に形成された第1の有機被膜と絶縁体微粒子表面に形成された第2の有機膜が互いに異なると、単層の微粒子膜を形成する上で都合がよい。また、共有結合が、エポキシ基とイミノ基の反応で形成された−N−C−の結合であると、微粒子膜の被着強度向上できて都合がよい。さらに、導電性基材表面に形成された第1の有機被膜と絶縁体微粒子表面に形成された第2の有機膜が単分子膜で構成されていると膜厚を制御する上で好都合である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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