配置制御されたパターン状の単層絶縁性微粒子膜と絶縁性微粒子累積膜およびそれらの製造方法

開放特許情報番号
L2009000970
開放特許情報登録日
2009/2/27
最新更新日
2010/5/21

基本情報

出願番号 特願2005-331240
出願日 2005/11/16
出願人 国立大学法人 香川大学、学校法人同志社
公開番号 特開2007-142004
公開日 2007/6/7
発明の名称 配置制御されたパターン状の単層絶縁性微粒子膜と絶縁性微粒子累積膜の製造方法
技術分野 電気・電子
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 電子デバイス、マイクロマシン、光学部品、保護膜
目的 絶縁性微粒子を用い、各種絶縁性微粒子本来の機能を損なうことなく、新たな機能を付与し、任意の基材表面に選択的に絶縁性微粒子を1層のみの並べた粒子サイズレベルで均一厚みの被膜(パターン状の単層絶縁性微粒子膜)や絶縁性微粒子を1層のみ並べた膜を複数層選択的に累積した被膜(パターン状の絶縁性微粒子累積膜)及びそれらの製造方法の提供。
効果 本技術によれば、絶縁性微粒子を用い、各種絶縁性微粒子本来の機能を損なうことなく、任意の基材表面に絶縁性微粒子を1層のみの並べた粒子サイズレベルで均一厚みの被膜(パターン状の単層絶縁性微粒子膜)や絶縁性微粒子を1層のみ並べた膜を複数層累積した被膜(パターン状の絶縁性微粒子累積膜)及びそれらの製造方法を低コストで提供できる。
技術概要
この技術では、基材表面を少なくとも第1のアルコキシシラン化合物とシラノール縮合触媒と非水系の有機溶媒を混合して作成した化学吸着液中に接触させてアルコキシシラン化合物と基材表面を反応させて基材表面に第1の反応性の有機膜を形成し、第1の反応性の有機膜を所定のパターンに加工する。次に、絶縁性微粒子を少なくとも第2のアルコキシシラン化合物とシラノール縮合触媒と非水系の有機溶媒を混合して作成した化学吸着液中に分散させてアルコキシシラン化合物と絶縁性微粒子表面を反応させて絶縁性微粒子表面に第2の反応性の有機膜を形成する。そして、第1の反応性の有機膜の形成された基材表面に第2の反応性の有機膜で被覆された絶縁性微粒子を接触させて選択的に反応させ、余分な第2の反応性の有機膜で被覆された絶縁性微粒子を洗浄除去する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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