立体形状測定及び分析装置

開放特許情報番号
L2009000961
開放特許情報登録日
2009/2/27
最新更新日
2013/7/1

基本情報

出願番号 特願2004-052910
出願日 2004/2/27
出願人 株式会社テクノネットワーク四国
公開番号 特開2005-241493
公開日 2005/9/8
登録番号 特許第4474535号
特許権者 国立大学法人香川大学
発明の名称 立体形状測定及び分析装置
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 ナノメートルオーダーの立体形状測定方法
目的 従来の立体形状測定装置を改良し、光の波長以上の大きさのものでも立体形状を測定することができるとともに、その組成を分析することも可能な装置の提供。
効果 本技術によれば、機械的にプローブを走査するのではなく、従来の形状測定装置と同様、被測定物を光学的に一挙に撮影し、その像を構成する各点の強度を検出するだけで立体形状を測定するものであるため、大きな範囲で立体形状を測定することができるとともに、機械的に走査する場合と比較すると極めて短時間で測定を行うことができる。
技術概要
この技術では、光源から被測定物に光を照射すると、被測定物の表面の或る点で反射される際、直接反射光(0次光)の他に高次回折光が生成される。このうち0次光を分別光学系により位相可変フィルタの可動反射部に、高次回折光を固定反射部に導き、それぞれ反射した後、干渉光学系により略1点に収束させて両者を干渉させる。このような状態で、位相可変フィルタの可動反射部を移動させると、干渉光学系の結像点における干渉光の強度が徐々に変化してゆく。この干渉光のピーク点での可動反射部の位置は、被測定物sにおける出発点と可動反射部との距離に依存するため、ピーク点での可動反射部の位置より、出発点の位置を算出することができる。このような測定及び計算を被測定物sの像を構成する各点について行うことにより、被測定物の立体形状を測定することができる。また、各点でのインターフェログラムをフーリエ変換することにより、各点の分析を行うことができる。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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