薄膜発熱体及びその製造法

開放特許情報番号
L2009000910
開放特許情報登録日
2009/2/27
最新更新日
2012/10/19

基本情報

出願番号 特願2007-079725
出願日 2007/3/26
出願人 学校法人同志社
公開番号 特開2008-243460
公開日 2008/10/9
登録番号 特許第5078070号
特許権者 学校法人同志社
発明の名称 薄膜発熱体
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 薄膜発熱体、半導体デバイス製造用ヒータ、真空蒸着装置、CVD装置、プレス金型用ヒータ、ホットプレート
目的 耐酸化性が強く、大気中において長時間連続して高温で発熱させても性能が低下しない薄膜発熱体の提供。
効果 薄膜発熱体を大気中において長時間にわたって高温度で連続発熱をさせても、酸化反応が薄膜内部にまで進行せずに抵抗値及び発熱温度はほとんど変動せず、よって、耐熱性に優れ、安定に作動する薄膜発熱体を提供することができる。また、迅速な温度制御が可能で、しかも小電力で作動する薄膜発熱体を提供することができる。
技術概要
 
この技術では、薄膜発熱体は、金属ケイ化物‐ケイ素複合体の薄膜を基体上に積層したものからなり、金属ケイ化物‐ケイ素複合体の薄膜は、金属ケイ化物の結晶粒がケイ素を介して互いに接合した内部構造を有するものとする。金属ケイ化物としては、例えば、モリブデン又はタングステン又はタンタル又はそれらの合金のケイ化物を挙げることができる。また、金属ケイ化物とケイ素の混合物を形成材料としてスパッタリング又は真空蒸着又はPVD(Physical Vapor Deposition:物理的気相成長法)又はCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相反応法)を行い、金属ケイ化物‐ケイ素複合体の薄膜であって、金属ケイ化物の結晶粒がケイ素を介して互いに接合した内部構造を有する薄膜を基体上に積層することにより、薄膜発熱体を得るものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 学校法人同志社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT