電気化学的エッチングの均一化手法

開放特許情報番号
L2009000860
開放特許情報登録日
2009/2/20
最新更新日
2015/10/29

基本情報

出願番号 特願2007-099612
出願日 2007/4/5
出願人 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構
公開番号 特開2008-255429
公開日 2008/10/23
登録番号 特許第5046277号
特許権者 国立研究開発法人宇宙航空研究開発機構
発明の名称 電気化学的エッチングの均一化手法
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造、表面処理
適用製品 ニッケル合金、エッチング加工、宇宙機用エンジン、スクラムジェットエンジン
目的 大きな面積全体、あるいは適当なピッチでの溝構造をエッチングするにあたり、周辺部が中心部より早くエッチングされてしまう不具合を解決して、全体として加工精度のよいエッチング加工を施せる方法の提供。
効果 エッチング加工する際に、パネルの被加工面部の最も外側部分に絶縁体のブロックを配置してエッチングを実施するので、絶縁物は電位分布に対して鏡のように働き、絶縁物から外側にも同様に電極が配置しているように、周辺部の溝にも電位勾配の影響が現れる。その結果全体の電極が相互に影響し合い、全体として均一なエッチング速度となるため、中央と端部の加工が均一化する。
技術概要
この技術では、電気化学的エッチングの均一化手法として、水溶液槽内においてパネルを陽電極とし対向電極の陰電極との間に電圧を印加してパネルの面に穴を電気化学的反応でエッチング加工する際に、パネルの被加工面部の最も外側部分に絶縁体のブロックを配置してエッチングを実施するようにする。絶縁体のブロックの素材は塩化ビニル製の平板を用いる。また、穴は適当なピッチの溝構造であり、外側部分はパネルの周縁部分であるものとする。また、パネルは宇宙機用エンジンの壁に用いるものであって、素材としてモリブデンを含むニッケル合金を選択するものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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