ルシフェリン−ルシフェラーゼ反応における発光強度の低下を抑制するための組成物及び方法

開放特許情報番号
L2009000792
開放特許情報登録日
2009/2/20
最新更新日
2015/9/28

基本情報

出願番号 特願2008-289710
出願日 2008/11/12
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2010-115132
公開日 2010/5/27
登録番号 特許第5382687号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ルシフェリン−ルシフェラーゼ反応における発光強度の低下を抑制するための組成物及び方法
技術分野 食品・バイオ、有機材料
機能 材料・素材の製造、検査・検出
適用製品 簡便な操作で実施でき、医薬候補物質等の外来因子が生体に及ぼす影響の評価、細胞間でのシグナル伝達の分析、標的遺伝子の発現を観察・測定すること等に広く利用される。
目的 ウミホタルルシフェラーゼとルシフェリンとの反応によって発せられる光の強度が経時的に低下することを抑制するための手段を提供する。
効果 ウミホタルルシフェラーゼによる経時的な発光強度の低下を抑制でき、また、反応開始時の発光強度と比較して、50%以上、好ましくは60%以上、更に好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上の発光強度が反応開始から3分後の時点で維持されている。
技術概要
少なくとも1種のアニオン性界面活性剤を含む、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下を抑制するための組成物である。尚、更に、少なくとも1種の非イオン性界面活性剤を含み、アニオン性界面活性剤がドデシル硫酸ナトリウムであり、非イオン性界面活性剤がポリエチレングリコール−p−オクチルフェニルエーテル(NP−40)及び/又はポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(Triton X−100)である。また、少なくとも1種のアニオン性界面活性剤の存在下でウミホタルルシフェラーゼとルシフェリンとを反応させることにより、ウミホタルルシフェラーゼによる発光強度の経時的低下を抑制する。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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