水素製造装置

開放特許情報番号
L2009000765
開放特許情報登録日
2009/2/20
最新更新日
2015/9/28

基本情報

出願番号 特願2008-269253
出願日 2008/10/19
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2010-095422
公開日 2010/4/30
登録番号 特許第5263769号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 水素製造装置
技術分野 無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 簡便な操作で得られ、燃料電池等の分野で広く利用される。
目的 分散型、車載型に用いることが出来る小型の水素製造装置として、(1)不純物除去の性能が高く、(2)コールドスタート時の起動が早く、(3)負荷変動に対しても速やかに供給量を調整、制御することが出来る、水素製造装置を提供する。
効果 水素製造装置は、高い不純物除去性能を有し、高速に起動することができ、さらに高精度に水素製造量を調整できる。水素製造量を応答速度よく制御することができるうえ、高いエネルギー効率で運転することができる。
技術概要
水素分離膜1を用いて原料ガスから水素を分離する水素製造装置であって、水素分離膜にマイクロ波を照射する手段を有する。尚、水素分離膜が金属薄膜であり、また、水素分離膜が、円筒状の支持体の外表面または内表面に水素分離性能を有する金属薄膜を形成したものである。また、マイクロ波を照射する手段が共振空胴構造を有し、共振空胴構造として、円筒型共振空胴を有し、その内部にTM↓0↓n↓0モード(nは1以上の任意の整数)定在波、もしくは、同軸型共振空胴モードの定在波を励起するマイクロ波を照射する手段を有している。更に、水素分離膜を用いて原料ガス4から水素5を分離する水素製造方法であって、水素分離膜にマイクロ波を照射する。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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