重水素化化合物製造用触媒及びそれを用いた重水素化化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2009000179
開放特許情報登録日
2009/1/9
最新更新日
2015/9/25

基本情報

出願番号 特願2008-232996
出願日 2008/9/11
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2010-064011
公開日 2010/3/25
登録番号 特許第5030175号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 重水素化化合物製造用触媒及びそれを用いた重水素化化合物の製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 重水素化化合物製造用触媒及びそれを用いた重水素化化合物
目的 重水素化された溶媒中、水素ガス(H↓2)又はギ酸(HCO↓2H)を用いた重水素化化合物の製造において、高純度、操作が簡便、選択的、及び錯体触媒の回収が可能な重水素化化合物の製造方法を提供する。
効果 重水素化された溶媒中、水素ガス(H↓2)又はギ酸(HCO↓2H)から、高純度、反応が1段階で済む簡便な実験操作、pHによる選択的な重水素化、および錯体触媒の回収、再利用、が可能な重水素化化合物の製造方法を提供することができる。
技術概要
重水素化された溶媒中で重水素化化合物を製造するための触媒であって、式1又は式2(図1)で表される重水素化化合物製造用触媒である。式中、R↑1〜R↑5及びR↑1↑4〜R↑1↑9は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、芳香族基、水酸基(−OH)、エステル基(−COOR)、アミド基(−CONRR’)、等;R↑6〜R↑1↑3は、水素原子、アルキル基、芳香族基、水酸基(−OH)、等;R↑9及びR↑1↑0は、一体となって−CH=CH−を形成してもよく、−CH=CH−におけるHは、それぞれ独立に、アルキル基、芳香族基、水酸基(−OH)、オキシアニオン(−O−)、等で置換されてもよい。Mは遷移金属であり、Lは、アルコキシドイオン、ハロゲン化物イオン、炭酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオンあるいはギ酸イオンの配位子であるか、または存在しなくてもよい。n及びmは、イオンの価数を表し、正の整数、0、又は負の整数である。また、この重水素化化合物製造用触媒の存在下、還元性官能基を有する基質を、重水素化された溶媒中、水素ガスと反応させる重水素化化合物の製造方法である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT