高さを測定する方法及び高さ測定装置

開放特許情報番号
L2009000120
開放特許情報登録日
2009/1/9
最新更新日
2015/9/25

基本情報

出願番号 特願2008-203460
出願日 2008/8/6
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2010-038788
公開日 2010/2/18
登録番号 特許第5099704号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 高さを測定する方法及び高さ測定装置
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 簡便な操作で実施でき、半導体素子の面上の凹凸やICユニットのリードの浮きのように、微小な高さの測定等の分野で広く利用される。
目的 対象物における微小な高さを測定するに際し、測定に要する時間を短くし、ケース内のICの検査を可能にし、繰り返し測定精度を高め、測定装置の構成を簡易なものとする。
効果 1回の撮像により対象物における高さを測定することができ、測定に要する時間を短くしてスループットを高め、ケース(エンボス)内のICの検査を行うことができる。
技術概要
上下に移動可能な載置ステージ2上に対象物Sを載置することと、光軸に関して対称的に配設された1対の窓部にそれぞれ異なる色のフィルターが設けられてなりフィルター以外の部分が遮光性であるフィルター付マスク9を含む撮像光学系と撮像素子とを備えた撮像装置を載置ステージに対して固定され上方から対象物を撮像可能な状態に配置することと、載置された対象物の基準表面に対して合焦するように撮像装置の撮像光学系を調節することと、対象物の基準表面に対して合焦した状態で対象物を撮像して得られた画像における対象物の凸部または凹部についての異なる色で分離した像の重心位置の間隔を算出するとともに撮像時の状態での撮影光学系に関して予め求められた分離した像の重心位置の間隔と凸部の高さまたは凹部の深さとの比例関係を表す換算係数と算出された分離した像の重心位置の間隔とから対象物の基準表面に対する凸部の高さまたは凹部の深さを算出することと、からなる、高さを測定する方法である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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