多層薄膜の分析方法ならびに装置

開放特許情報番号
L2009000030
開放特許情報登録日
2009/1/9
最新更新日
2011/1/14

基本情報

出願番号 特願2007-094365
出願日 2007/3/30
出願人 福井県
公開番号 特開2007-292749
公開日 2007/11/8
登録番号 特許第4630978号
特許権者 福井県
発明の名称 多層薄膜の分析方法ならびに装置
技術分野 その他
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 多層薄膜の分析装置
目的 めっき等の多層薄膜が表面に形成された試料に対し、試料調整を行わず、同一元素が複数の層に含まれていても多層薄膜標準試料を用いず、試料の各層の組成と膜厚を算出する分析方法および装置を提供する。
効果 試料調整を行わず、同一元素が複数の層に含まれていても多層薄膜標準試料を用いず、レーザ照射によって試料から発する物質の捕集および前記物質の組成分析結果と、設定したサンプリング範囲における所定間隔の長さ、または削られた深さの測定結果から多層薄膜が表面に形成された試料の各層の組成と膜厚を算出することができる。
技術概要
図1は、多層薄膜の各層の組成と膜厚を算出するための分析装置を示す概略構成図である。分析装置は、レーザビーム1Bを下向きに照射するレーザ装置1A、多層薄膜が表面に形成された試料3から蒸発する物質を順次分離捕集するサンプリング装置2、試料3をレーザ装置1Aに対向するように上面に載置する載置台4、載置台4を上下左右方向に移動させる移動機構5、サンプリング装置2で捕集された物質の組成を分析する定性定量分析装置6、移動機構5の移動量制御および捕集された物質の組成分析結果に基づいて試料3の各層の組成と膜厚を算出する計算処理装置7などを少なくとも備えた構成である。図2はレーザビーム1Bの加工可能範囲を示すもので、上下の加工可能範囲の間に試料が位置する場合に、レーザビーム1Bの熱および光エネルギの作用によって試料が加工され表面から物質が蒸発する。加工可能範囲下限界面10に試料3を移動させて加工を行っている。図3は多層薄膜の各層の組成と膜厚を算出するための分析装置の他の例を示す概略構成図である。
イメージ図
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT