| 出願番号 |
特願2004-045160 |
| 出願日 |
2004/2/20 |
| 出願人 |
国立大学法人鳥取大学 |
| 公開番号 |
特開2005-230736 |
| 公開日 |
2005/9/2 |
| 登録番号 |
特許第4078427号 |
| 特許権者 |
国立大学法人鳥取大学 |
| 発明の名称 |
窒素酸化物の除去方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品、無機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造、環境・リサイクル対策 |
| 適用製品 |
窒素酸化物の還元用触媒 |
| 目的 |
窒素酸化物、特に酸素が共存されるか、酸素および水蒸気が共存される窒素酸化物をメタンを還元剤として還元反応させる際に比較的低温（４００℃未満）で高活性を示す触媒を提供する。 |
| 効果 |
多孔質シリカにヘテロポリ酸を含有させた担体にパラジウムを担持させることによって、窒素酸化物をメタンを還元剤として還元反応させる際に比較的低温（４００℃未満）で高い活性を示す窒素酸化物の還元用触媒を提供できる。 |
技術概要
|
孔質シリカにヘテロポリ酸を含有させた担体と、この担体に担持されたパラジウムとを含む窒素酸化物の還元用触媒である。多孔質シリカは、比表面積が１００ｍ↑２／ｇ以上である。ヘテロポリ酸は、Ｈ↓４ＳｉＷ↓１↓２Ｏ↓４↓０、Ｈ↓３ＰＭｏ↓１↓２Ｏ↓４↓０またはＨ↓３ＰＷ↓１↓２Ｏ↓４↓０である。ヘテロポリ酸の中でＨ↓３ＰＭｏ↓１↓２Ｏ↓４↓０が高活性で、Ｈ↓３ＰＷ↓１↓２Ｏ↓４↓０が最も高活性である。ヘテロポリ酸は、多孔質シリカに全触媒量に対して２０〜４０重量％の範囲で含有される。パラジウムは、多孔質シリカに全触媒量に対して０．１〜１０重量％の範囲で担持される。この触媒の存在下、窒素酸化物をメタンを還元剤として還元反応させる窒素酸化物の除去方法である。メタンは、窒素酸化物の反応場にメタン：窒素酸化物のモル比で０．５：１〜１０：１になるように供給する。窒素酸化物の反応場には、酸素が共存するのが好ましい。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
