パルス幅制御装置およびレーザー照射装置

開放特許情報番号
L2008005971
開放特許情報登録日
2008/12/19
最新更新日
2012/12/20

基本情報

出願番号 特願2008-280360
出願日 2008/10/30
出願人 国立大学法人 宮崎大学
公開番号 特開2010-107777
公開日 2010/5/13
登録番号 特許第5120847号
特許権者 国立大学法人 宮崎大学
発明の名称 パルス幅制御装置およびレーザー照射装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 レーザーアブレーション加工等において使用されるレーザー照射装置に有用なパルス幅制御装置に適用する。
目的 パルス幅を連続的に変化させうる構造を有するパルス幅制御装置を提供する。
効果 小型の構成で、パルス幅を100フェムト秒オーダー(10↑−↑1↑3秒)前後の範囲で制御するのに好適なパルス幅制御装置が得られる。
技術概要
(A)レーザー光(フェムト秒レーザー光)3の光路に対して傾斜して配置され、且つレーザー光3が入射される入射辺と、光路に対して傾斜し、且つ入射辺に対して傾斜する出射辺とを有し、レーザー光3の光路上に配置されて内部をレーザー光3が透過するレーザー光透過素子18、19、23、24と、(B)レーザー光透過素子18、19、23、24内を通過する光路に対して傾斜する素子移動方向にレーザー光透過素子18、19、23、24を移動可能に支持する、例えばエアシリンダ16、21等からなる素子移動装置13と、(C)素子移動装置13の移動量を制御して、レーザー光透過素子18、19、23、24内を通過するレーザー光3の光路長を制御し、出力されるレーザー光3のパルス幅を変化させる、例えばパーソナルコンピュータ等から構成されるパルス幅制御手段と、を備えるパルス幅制御装置4にする(図)。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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