磁気記録媒体

開放特許情報番号
L2008005634
開放特許情報登録日
2008/11/7
最新更新日
2010/6/11

基本情報

出願番号 特願2006-510350
出願日 2005/2/25
出願人 学校法人日本大学
公開番号 WO2005/081233
公開日 2005/9/1
登録番号 特許第4510812号
特許権者 学校法人日本大学
発明の名称 磁気記録媒体
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 記録媒体等に有用な薄膜材料に適用する。
目的 特定構造を有する下地層の上に所定の膜を形成してなる薄膜材料を提供する。
効果 下地層上に任意構造の膜を形成でき、これにより微小な記録マークが安定的に形成された記録材料が得られる。
技術概要
基板10上に、均等に微小な凹部が表出されている下地層11が積層されてなり、この下地層11上に表出されている凹部に基づいて、規則的な構造により所定の膜12が形成される薄膜材料1にする(図)。下地層11は、直径が数nm〜数十nmの同一サイズの球状の空孔が面心立方構造状に均等に形成されてなる酸化珪素及びその混合物からなる層であることが好ましい。例えば、下地層11は、Si基板上に、テトラエトキシシラン、エタノールを含有する塩化水素水溶液にトリブロック・コポリマーを混入させた溶液によるスピンコートを行なった後、400℃の温度におけるアニール処理を行い、続いて、Arイオンによるエッチングを行なって得られる。かくして、この下地層11上に公知の方法により磁性膜または非磁性膜を形成することによって記録媒体を得ることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【有】   
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