| 出願番号 |
特願2005-105319 |
| 出願日 |
2005/3/31 |
| 出願人 |
国立大学法人静岡大学 |
| 公開番号 |
特開2006-284390 |
| 公開日 |
2006/10/19 |
| 登録番号 |
特許第4547499号 |
| 特許権者 |
国立大学法人静岡大学 |
| 発明の名称 |
光学活性分子の絶対配置決定方法、絶対配置決定装置、及びプログラム |
| 技術分野 |
情報・通信、化学・薬品 |
| 機能 |
機械・部品の製造、制御・ソフトウェア、検査・検出 |
| 適用製品 |
光学活性分子の絶対配置決定装置、及びプログラム |
| 目的 |
光学活性分子の絶対配置を簡易且つ確実に決定する光学活性分子の絶対配置決定方法及び決定装置を提供する。 |
| 効果 |
光学活性分子の絶対配置を簡易且つ確実に決定することができる。 |
技術概要
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図１は、絶対配置決定装置（決定装置）の概略構成を示すブロック図である。この決定装置は、演算及び各種の制御を行うＣＰＵ１０、ＣＰＵ１０の演算及び制御プログラムを記憶したＲＯＭ１２、作業エリアを備えたＲＡＭ１４、分子軌道計算用の各種プログラムや各種データファイル等を記憶するハードディスクドライブ（ＨＤＤ）１６及び入出力インターフェース１８がバス２０によって接続されて構成される。絶対配置決定処理を実行するためのプログラムはＲＯＭ１２に格納される。また、入出力インターフェース（Ｉ／Ｆ）１８には、円二色性スペクトル（ＣＤスペクトル）を測定する測定装置２２、及び紫外−可視吸収スペクトル（ＵＶスペクトル）を測定する測定装置２４が接続され、測定したスペクトルデータを取り込むことが可能となる。図２は、光学活性分子の絶対配置決定処理の処理ルーチンを示すフローチャートである。図３は分子モデル作成処理の処理ルーチンを示すフローチャートである。図４は旋光強度演算処理の処理ルーチンを示すフローチャートである。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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